포토마스크(photomask) 세정 장치
마스크의 클리너는 제품 제품 비율 향상의 필수 조건.
축적된 세정 기술 및 건조 기술로 마스크의 코우세 정화에 크게 공헌 하고 있습니다.

작은 사이즈로부터 대형 사이즈까지의 폭넓은 포토마스크(photomask)(크롬 마스크)에 대응한 장치, 4기종을 공급합니다.
 

특징
1 워크의 스크러브 세정·린스·건조를 1대의 장치로 스피디 하게 실행.
2 특수 세정 브러쉬에서 워크에 상처를 붙이지 않고 세정 얼룩짐 없고 정밀 세정을 실행.
3 세로틀을 처리 때문에, 작업상에 트로불이 없습니다.
4 소량 다품종, R&D용도의 기판 세정에도 최적.
5 각 사이즈 전용 워크 홀더의 준비와 프리 사이즈 대응 워크 홀더를 준비.또는 워크 접촉 부분은
수지에서 대응.
전용 워크 홀더 프리 사이즈용 워크 홀더 개별 대응 전용 워크 홀더
전용 워크 홀더 프리 사이즈용 워크 홀더 개별 대응 전용 워크 홀더
 
용도
포토마스크(photomask): 반도체용, 액정용, 유기 EL용, 칼라 필터용, 박막 디바이스용, IC패키지용,
PWB용, PCB용, FPC용
그 외, 판 모양 기판등 세정가능
  ◆ 각 옵션
계면활성제 공급 유닛트, HEPA/ULPA 유닛, 이오나이저, 핫 에어 나이프, 순수한 물 가열 유닛
세로틀 컴팩트 타입
 
TW-200
모델 TW-200
 
대응 사이즈 300mm×300 mm까지
장치 치수 700 mm(폭)×900 mm(안길이)×1570 mm(높이)
작업부 높이 1040 mm
작업 높이 1040mm
중량 250Kg
 
TW-300
모델 TW-300
 
대응 사이즈 360mm×460 mm까지
장치 치수 1070 mm(폭)×700 mm(안길이)×1815 mm(높이)
작업부 높이 1200 mm
작업 높이 1200mm
중량 280Kg
 
TW-700
모델 TW-700
 
대응 사이즈 620mm×720 mm까지
장치 치수 1810 mm(폭)×880 mm(안길이)×1590 mm(높이)
작업부 높이 1240 mm
작업 높이 1240mm
중량 580Kg
PDP·대형용 포토마스크(photomask) 대응 장치
TW-1000
모델 TW-1000
대응 사이즈 1300mm×1700 mm까지
장치 치수 7200 mm(폭)×1200 mm(안길이)×2700 mm(높이)
*마스크 인도부는 엔드유저 스팩으로 대응합니다.

포토마스크(photomask) 클리너·마스크 클리너·마스크 세척기·스크러브 세정 장치·기판 세정 장치

 

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