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마스크의 클리너는 제품 제품 비율 향상의 필수 조건.
축적된 세정 기술 및 건조 기술로 마스크의
코우세 정화에 크게 공헌 하고 있습니다.
작은 사이즈로부터 대형 사이즈까지의 폭넓은 포토마스크(photomask)(크롬 마스크)에 대응한 장치, 4기종을 공급합니다.
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| 1 |
워크의 스크러브 세정·린스·건조를 1대의 장치로 스피디 하게
실행. |
| 2 |
특수 세정 브러쉬에서 워크에 상처를 붙이지 않고 세정 얼룩짐 없고
정밀 세정을 실행. |
| 3 |
세로틀을 처리 때문에, 작업상에 트로불이
없습니다. |
| 4 |
소량 다품종, R＆D용도의 기판 세정에도 최적. |
| 5 |
각 사이즈 전용 워크 홀더의 준비와 프리 사이즈 대응 워크 홀더를
준비.또는 워크 접촉 부분은
수지에서 대응. |
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| 전용 워크 홀더 |
프리 사이즈용 워크 홀더 |
개별 대응 전용 워크
홀더 | | |
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| 포토마스크(photomask)： |
반도체용, 액정용, 유기 EL용, 칼라 필터용, 박막 디바이스용, IC패키지용,
PWB용, PCB용,
FPC용
그 외, 판 모양 기판등 세정가능 |
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◆ 각
옵션
계면활성제 공급 유닛트, HEPA/ULPA 유닛, 이오나이저, 핫 에어 나이프,
순수한 물 가열 유닛
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| 모델
TW-200 |
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| 대응 사이즈 |
300mm×300 mm까지 |
| 장치 치수 |
700 mm(폭)×900 mm(안길이)×1570 mm(높이)
작업부 높이 1040 mm |
| 작업 높이 |
1040mm |
| 중량 |
250Kg | | |
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| 모델
TW-300 |
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| 대응 사이즈 |
360mm×460 mm까지 |
| 장치 치수 |
1070 mm(폭)×700 mm(안길이)×1815 mm(높이)
작업부 높이 1200 mm |
| 작업 높이 |
1200mm |
| 중량 |
280Kg | | |
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| 모델
TW-700 |
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| 대응 사이즈 |
620mm×720 mm까지 |
| 장치 치수 |
1810 mm(폭)×880 mm(안길이)×1590 mm(높이)
작업부 높이 1240 mm |
| 작업 높이 |
1240mm |
| 중량 |
580Kg | | |
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| 모델 TW-1000 |
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| 대응 사이즈 |
1300mm×1700 mm까지 |
| 장치 치수 |
7200 mm(폭)×1200 mm(안길이)×2700 mm(높이) |
| *마스크 인도부는 엔드유저 스팩으로 대응합니다. | | |
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포토마스크(photomask) 클리너·마스크 클리너·마스크 세척기·스크러브 세정 장치·기판
세정 장치 |
