탁상용 웨이퍼 현상장치 (wafer developer)

PD-1000 -탁상형·패들 현상 장치-
PD-1000

특징
고성능·저가격·컴팩트 탁상 타입
현상 방식:패들 현상(파이프 토출) 전용
기판 사이즈 φ1"~ φ6"
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작
약액·린스액가압 압송용 캐니스터캔부속

장치 치수:300W × 390D ×280H (mm) 커버 개폐시 600 H


이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 현상 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.
   

 

AD-1200 -스윙 노즐식 스프레이 현상·패들 현상 대응 현상 장치-
AD-1200 특징
고성능·저가격·컴팩트 탁상 타입
패들 현상을 프로그램 선택 가능
기판 사이즈 φ1"~φ6"
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작
약액 압송 펌프 내장에 의해 가압 탱크가 불요

장치 치수:550W×400D×440H(mm) 커버 개폐시 740 H


이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 현상 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.

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AD-3000 -트윈 스윙 노즐식 스프레이 현상·패들 현상 대응 현상 장치-
AD-3000 특징
대형 기판 대응 트윈 스윙 노즐 스프레이식
기판 사이즈 φ1"~φ12"
패들 현상을 프로그램 선택 가능
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작
안정된 기판 회전, 회전 얼룩짐 0.1%이하
최대 회전수:3,000rpm,또는 회전 정지 동작 가능
약액 공급은 가압 탱크압송식
약액 2 계통 또는 3 계통 증설 가능

최대 기판 사이즈:φ300 mm, 또는 200 mm각
장치 치수:720W×520D×500H(mm) 커버 개폐시 910 H


이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 현상 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.
 

회전 노즐식 스프레이 에칭 장치

ED-1200 -스윙 노즐식 스프레이 에칭 장치-
ED-1200 특징
고성능·저가격·컴팩트 탁상 타입
기판 사이즈 φ1"~φ6"
내약품성을 고려해 접액부에 PVC(염화비닐)를 사용
에칭, 린스, 진절를 연속 처리
약액 압송 펌프 내장에 의해 가압 탱크가 불요
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작

장치 치수:550W×400D×440H(mm) 커버 개폐시 740 H


이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 에칭 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.
 

 TEL : 02-868-0661 (代) 

ED-3000 -트윈 스윙 노즐식 스프레이 에칭 장치-
ED-3000 특징
대형 기판 대응 트윈 스윙 노즐 스프레이식
기판 사이즈 φ1"~φ12"
내약품성을 고려해 접액부에 PVC(염화비닐)를 사용
에칭, 린스, 진절를 연속 처리
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작
약액 공급은 가압 탱크압송식
약액 2 계통 또는 3 계통 증설 가능

최대 기판 사이즈:φ300 mm, 또는 200 mm각
장치 치수:720W×520D×500H(mm) 커버 개폐시 910 H

이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 에칭 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.

 

테프론 CHAMBER 타입 스프레이 에칭 장치

 
ED-3000T -테플론 chamber 타입·스프레이 에칭 장치-
ED-3000T 특징
대형 기판 대응 트윈 스윙 노즐 스프레이식
기판 사이즈 φ1"~φ12"
내약품성이 뛰어난 테플론 chamber를 채용
에칭, 린스, 진절를 연속 처리
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작
약액 공급은 가압 탱크압송식
약액 2 계통 또는 3 계통 증설 가능

최대 기판 사이즈:φ300 mm, 또는 200 mm각
장치 치수:720W×520D×500H(mm) 커버 개폐시 910 H

이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 에칭 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.

 

소형 웨이퍼 에칭 장비

NE-7000 -소형 에칭 장치-
NE-7000 특징
액정 터치 패널에서 프로그램 입력, 처리의 임의 설정이 가능
노즐은 스캐닝 또는 고정 선택식
내약품성이 뛰어난 테플론 chamber
에칭, 린스, 진절를 연속 처리
약액 2 계통 또는 3 계통 증설 가능

최대 기판 사이즈:φ200 mm, 또는 150 mm각
장치 치수:420W×420D×740H(mm)

이상 실리콘 기판, 화합물 반도체 기판, 유리 기판, 세라믹 기판등 대응합니다.
또, 옵션으로서 약액 온도 관리 시스템등도 있기 때문에 자세한 것은 문의해 주세요.
그 외 대형 기판용 에칭 장치, 및 자동 장치에 대해서도 상담해 주세요.

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고압 스윙 노즐식 마스크 세정장비

HK-3000 -고압 스윙 노즐식 마스크 세정 장치-
HK-3000 특징
고압 스윙 노즐 스프레이식(에어 구동식 고압 플렁거 펌프 압송 압력:1.5~15 Mpa)
마스크 사이즈 2.5"~7"에 대응
기판 회전수 0~3,000 rpm(임의 설정)
적외선 건조용 500 W램프 사용
액정 터치 패널에서 프로그램 입력 간단 조작

 

 TEL : 02-868-0661 (代)                

 

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