스핀 디벨로퍼 & 스핀 에처 & 스트리퍼 (spin developer & etcher & Stripper : 세미오토)

 당사 제품은 각종 반도체 웨이퍼, SUS 명판, PCB 에칭용(현상기 : 에쳐)으로 사용이 가능하며, 우수한 식각 균일성을 보장하는 회전식 스프레이 식각장치입니다.

각종 화학 약품에 대해 내화학성이 뛰어난 PVC, PFA, SUS 등을 사용하므로 우수한 내구성을 보장합니다.

상부에서 하부로 분무되는 식각용액은 순환시켜 재사용하며, 식각의 균일성을 위해 시편 지지대는 자동으로 회전하면서 에칭(현상) 및 세척을 해 줍니다.

◈ 특 징  (하기 사양은 주문자에 의해 변경하여 공급할 수 있습니다. : 내 산성用 및 내 유기성用)

① 고급 사양의 스프레이 에칭(현상)장비이며, 에칭(현상) 시간 및 온도 설정이 가능합니다.

* 디지털 온도 조절기로 70℃까지 조절

* 디지털 타이머로 에칭(현상)시간 설정

* 스핀 R.P.M 조정

② 약산 약알칼리 분위기에 사용 가능합니다. (옵션 : 유기용으로 공급합니다.)

③ 150㎜ × 150㎜ 크기 기판의 에칭이 가능합니다. (옵션 : 8, 12 인치 사용 : 엔드유저 타입으로 공급)

④ 실험실, 연구소, 대학교 실습용, 소롯트 생산용으로 적합합니다.

⑤ 드레인 밸브로 약품의 교환 및 제거가 용이합니다.

당사가 개발하여 공급 하는 스핀코터 및 스핀 디벨로퍼 (스핀에처, 마스크 세정장비 용도로 사용 가능), 소롯트 생산 및 연구용 장비로 사용 !

Model : SD-0627 (내산성用 : PVC), SD-0430 (유기用 : SUS)

 상기 제품은 스핀 홀더용이며 버큠 척을 사용할 수 있게 공급도 합니다.

 TEL : 02-868-0661 (代) 

 

상기 스팩은 유저에 의해 변경될 수 있습니다.

특징 :

1. 당사 스핀에쳐(spin etcher)는 자동으로 PCB, 글라스 웨이퍼의 시편을 올려놓고 자동으로 회전하며 에칭, 현상 및 세척을 해 줍니다.
2. 간단한 조작으로 고감도 패턴을 얻을 수 있습니다.
3. 외산에 비해 공급가격이 저렴하며 일반 PCB용 에칭기로도 사용이 가능합니다.
4. 상기 제품은 FULL OPTION이며 자동으로 저렴하게 공급합니다.

* 귀사가 원하시는대로 사양을 의뢰하시면 당사가 적용하여 공급이 가능합니다. (End-user Base.)

  TEL : 02-868-0661 (代) 

feature

1. Our supply to Spin Etcher are manaual type & Semi Auto Type & need to end-user include for Glass, Wafer, P.C.B.
2. Our supply to very simply control & High sensitivity pattern.
3. Our supply to very competitive price.
   

 스핀코터에 관심이 계시면 여기를 클릭해 주시면 당사가 공급하는 스핀코터 사이트가 보입니다.

Wafer의 노광작업 후 표면을 현상하는 장비로서 현상하는 과정에서 가장 중요한 Wafer의 센터링 및 현상액의 정량 토출을 쉽고 편리하게 사용할 수 있는 장비이며 User의 접근이 용이 하도록 PC기반 Graphic User Interface를 채용하여 사용하기 쉽도록 설계되어 있습니다.

- Manual spin developer : DATC SYSTEM의 기본 장비로서 FRAME, BOOTH, SPIN, Manual Centering, Control PC등으로 구성되어 있습니다.

- Auto 현상액 dispense unit : Recipe의 설정에 따라 SCAN mode와 Single mode로 사용 가능합니다.

- Auto DI dispense unit : Wafer의 표면에 DI를 뿌리는 unit, Nozzle, Tank등으로 이루어져 있습니다.

- Auto back rinse unit : Wafer의 back side 오염을 방지하는 unit으로 dispense nozzle, 약액 Tank 등으로 이루어져 있습니다.

- Auto centering unit: Wafer를 Spin chuck 중앙에 위치시키기 위한 unit으로 Centering arm, Moving motor등으로 이루어져 있습니다.

We have a case unlike the real thing to a product of a photograph.		Model ： DA2D-200
		Feature
			Temperature control, drainage selection, and various functions can be added. (The photo is teflon + PVC body. )
		Specification
			Work　size: Φ2 inch ～ Φ8 inch Acid solution Acid and alkali type Clean unit HEPA filter Option selectable　2-4 drains, and nozzles for chemical Power supply AC100v or　200v CDA. more　0.5Mpa . DIW. more　0.2Mpa . ※ It is designed by customers spec, and various applications can be corresponded easily.

We have a case unlike the real thing to a product of a photograph.		Model ： DAS-401
		Featureｓ
			It corresponds to the acid and the solvent by two kinds of body materials. (Please consults with　us when　you　will　study. The photo is PVC body. ) Multipurpose equipment that can be used for etching, cleaning, development, stripping、 dry 、etc.
		Specificationｓ
			Substrate size Φ2 inch ～ Φ8 inch Clean unit HEPA filter as standard Clean Spin clean and (Brush or MS User choose) Spindle motor DC Motor Range of revolution speed 100-5000 rpm Revolution speed setting Volume Revolution speed display Analog Acid specification Acid and alkali type Solvent specification       IPA . Various solution such as acetones Optionｓ High-pressure jet nozzle and chemical nozzle , Filter,etc. DIW. RC３／８inch Power supply ＡＣ100ｖ　ｏｒ200v　10Ａ　50/60Ｈｚ　±１０％ EXH. Φ50ｍｍ　PVC.

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 2007/01/20