1.장치의 개요
본장치는 , 반도체소자 디바이스등 포트리소그래피를 필요로 하는 연구 분야에 있어 , 고정밀도의 패턴 노광을 할 수 있는 마스크아라이먼트 장치입니다. 각 기구 조작부를 수동으로 한 심플한 구성으로 , 다방면에서의 응용이 듣는 Low cost로 사용하기 편리한 아라이나입니다.

2.사양
형식：한 면등 배 노광식 마스크아라이먼트 장치
형명：LA310

• 노광 방식 1：1등 배 노광
  컨택트(컨택트압 조정가능) 및 프로키시미티
  소프트←→하드 연속 가변
  
  
• 적응 시료
  사이즈 최대 φ3인치
  두께 최대 t=800μm정도
  사이즈 변경은 시료대의 변경에 의해 대응하는
  고정 방식 진공 흡착 고정
  
  
• 적응 마스크：
  사이즈 최대 □4인치 납품시 □3인치 대응 마스크 홀더 첨부
  두께 0.06인치 또는0.09인치 어느 쪽인지 주문시로 지정
  사이즈 변경은 마스크 홀더의 변경에 의해 대응하는
  고정 방식 진공 흡착 고정
  
  
• 노광 성능 및 램프 하우스
  형식 야마시타 전장제 「하이퍼 큐어」또는 「균일군」
  광학 형식 인티그레이터 렌즈 방식
  유효 노광 면적 □50mm(각종 사이즈 선택 가능)
  조도 균일도　 ±3%또는±10%이내
  주파장 365,405,436nm
  파장 선택 필터(3파장) 를 내장 가능( 「균일군」지정시) 마셔
  UV 조사 강도 약16mW/c㎡ (at 365nm)
  우시오 자외선 조도계UIT-101로 측정시
  조사 거리 약160mm
  사용 램프 Hg-Xe램프 200W
  야마시타 전장제 UXM-200YA(제조는 우시오전기)
  램프 평균수명 약800시간
  노광량 설정　 타이머 설정(0.3~99.9초 분 단위에도 설정 가능)
  셔터 개폐 로터리 솔레노이드 방식
  광축 조정 XYZ3축 조정 방식
  노광 해상도 라인＆스페이스　1~2μm
  ※단 전후 공정등 의 제조건 , 사용 재료등에 의해 변화합니다.
  마스크아라이나 단체에서의 보증은 할 수 없습니다.
  냉각 방식 강제 공냉
  전원 장치 트랜지스터 스위칭정 전력 제어 직류 스타터식
  출력 전력 안정도 ±1%　이내
  
  
• 아라이먼트 방식 아라이먼트 현미경에 의한 목시 아라이먼트
  웨이퍼 표면 및 위쪽 마스크 패턴의 동시 관찰에 의한 위치 맞춤
  
  
• 아라이먼트 현미경 쌍안쌍 대물 현미경(표준에서 아래와 같은3종류의 배율 완전히 교체되고 가능)
  

  종합 배율	92.5	185	370
  대물렌즈 배율	1.85
  접안 렌즈 배율	10
  확대 랜즈 배율	5	10	20
  시야지름 (mm)	φ1.8	φ0.9	φ0.45
  C마운트 결상 배율	9.25	18.5	37
  작동 거리WD (mm)	약 50

  
  ·대물렌즈간 거리 8~90mm
  ·관찰 조명 150W할로겐 램프＋섬유 라이트 가이드에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
  　UV 컷토프 필터：Y44옐로우 필터를 조명 광원에 매달려라
  　※관찰 조명에 의한 불요 노광 방지를 위해
  ·CCD 카메라 C 마운트(표준 장비)에 의해 접속 가능
  　CCD 카메라 , 모니터등 은 옵션
  
  
• 현미경 이동 방식 자재 암 방식
  θ축 stroke ±7.5˚ 수동
  Z축(FOCUS조정) ±4mm 수동
  노광시 현미경 퇴피 레바 회전 수동
  
  
• 마스크아라이먼트스테이지
  X축 stroke ±5mm 수동(마이크로 헤드)
  Y축 stroke ±5mm 수동(마이크로 헤드)
  Z축 stroke 0~0.5mm 에어 구동 상한 리밋트 설정 가능
  컨택트압 조정 가능
  0~4mm 메카 구동 수동(미동·조동 핸들부)
  미트트요제측장기 분해가능 1μm (옵션)
  θ축 stroke ±7˚ 수동 미동
  ±30˚ 수동 통상 고정
  레벨 조정 공 접동 기구 진공 락부(시료-마스크간 평행 방편용)
  마스크 홀더 노광창 □50mm
  
  
• 관찰 위치 스테이지 (웨이퍼-마스크를 아라이먼트 한 채로 관찰 위치만 이동하는)
  X축 stroke ±25mm　 수동(레바 방식)
  Y축 stroke ±25mm　 수동(레바 방식)
  
  
• 치수/중량 1580(H)×800(W)×600(D)mm이내　/　300Kg 이하
  
  
• 유틸리티
  진공 600mmHg이상
  진공 펌프(진공기공제 DA-60D) 는 옵션
  질소 또는 드라이 에어 5Kg/c㎡이상
  전원　 AC100V 8A MAX. 100V이외는 변압기 사용
  
  
• 동작환경
  온도 범위 25±2℃
  습도 범위 50±10%　단 결로없는 일.

3.보증 규정
검수 후 1년 또는 동작시간5000시간의 어느쪽이든 단기의 (분)편을 보증 기간으로 해 , 불편·고장이 생겼을 경우는 무상 수리 물어 더합니다. 단 , 천재지변 및 취급해 부주의 , 사양외의 환경·사용 조건 , 소모에 의해 발생한 사항은 이 마지막으로는 없습니다.
그리고 , 일반 구입품은 각 제조 메이커의 보증 범위만 물어 더합니다.

4.출하 조건
입회 검사장소:당사에서
출하 검사 내용 당사 규정에 의한
①기능의 검사 노광 램프 동작 , 진공 흡착 동작 , 스테이지 동작 , 그 외 각부
②일반 사항의 검사 장치 외관 , 형상 , 치수 , 구조 , 조작반의 명판 표시 , 소음 , 진동 , 표면 처리
③노광 조도 측정 사양을 만족하는 것

5.납입시 제출 서류
검사 성적표 1부(당사내 입회 검사 결과)
취급 설명서 1부(보수 부품 명기)

6.특수 사양·옵션 등 (필요에 따라서 선택해 주세요 )
· 41만 화소CCD카메라1대 ,9인치 흑백 모니터1대
· 파장 선택 필터365nm,405nm,436nm용(램프 하우스내에 장착)
· 적산 광량 제어
· 갭측장기

1.장치의 개요
본장치는 , 반도체소자 디바이스등 포트리소그래피를 필요로 하는 연구 분야에 있어 , 각종 패턴 노광을 할 수 있는 마스크아라이먼트 장치입니다. 간이적인 노광을 목적으로 하는 용도에 향하고 있습니다. 심플한 구성으로 , 다방면에서 응용이 듣는 Low cost인 모델입니다.

2.사양
형식：등 배 한 면 노광식 마스크아라이먼트 장치
형명：LA310s

• 노광 방식 1：1등 배 노광
  컨택트(컨택트압 조정가능) 및 프로키시미티
  ※옵션：공기 압력 공급이 필요한
  
  
• 적응 시료：
  사이즈 최대φ3인치 주문시에 알려 주세요
  두께 최대 1mm
  각 사이즈 모두 시료대등 의 변경에 의해 대응 가능
  고정 방식 진공 흡착식
  ※특수 형상 시료에 적합하는 시료대를 제작 받는
  
  
• 적응 마스크：
  사이즈 최대□4인치 주문시에 알려 주세요
  두께 0.06인치 또는0.09인치로부터 선택
  각 사이즈 모두 마스크 홀더등 의 변경에 의해 대응 가능
  고정 방식 진공 흡착식
  ※특수 형상 마스크에 적합하는 마스크 홀더를 제작 받는
  
  
• 노광 성능 및 램프 하우스
  광학 형식 콜리메이터 렌즈 고정식
  조사 거리 약200mm
  유효 노광 범위 φ80mm
  조도 균일도 ±15%
  주파장 λ=365,405,436nm
  사용 램프 초고압 Hg 램프250W 우시오제 USH-250
  방사 강도 약13mW/c㎡이상(at 405nm) 우시오UIT-101에서 측정
  램프 냉각 방식 강제 공냉
  노광 해상도 라인＆스페이스2μm 정도
  노광할 수 있는 최소 선폭은 사용하시는 레지스터·마스크·웨이퍼·노광전 공정/후속 공정등 의 제조건에 의해 다른 일이 있습니다.
  노광량 설정　 타이머 설정(0.3~99.9초)
  셔터 개폐 로터리 솔레노이드 방식
  광축 조정 XYZ3축 조정 방식
  냉각 방식 냉각 팬에 의한 강제 공냉
  전원 장치 트랜지스터 스위칭정 전력 제어 직류 스타터식
  출력 전력 안정도 ±1%　이내
  소비 전력 AC100V 15A MAX.(노광 램프 전원만 )
  
  
• 아라이먼트 방식 실체 현미경에 의한 목시 아라이먼트
  웨이퍼 표면 및 위쪽 마스크 패턴의 동시 관찰에 의한 위치 맞춤
  
  
• 관찰 현미경　 Olympus제 실체 현미경SZ4045-2(표준)
  ※옵션：기종 변경 가능
  
  UV 컷토프 필터 옐로우 필터를 조명 광원에 매달려라
  관찰 조명에 의한 불요 노광 방지를 위해
  
  
• 마스크아라이먼트스테이지(마스크 고정 , 웨이퍼 이동)
  X축 stroke ±5mm 수동(미동·조동 핸들부)
  Y축 stroke ±5mm 수동(미동·조동 핸들부)
  Z축 stroke 0~4mm 수동(미동·조동 핸들부)
  Z축 stroke 0~0.5mm 에어 구동 상한 리밋트 설정 가능
  ※옵션 컨택트압 조정 가능
  θ축 stroke ±7˚ 수동 미동
  ±30˚ 수동 통상 고정
  레벨 조정 구면 접동 방식 수동 진공 흡착식 고정(진공 펌프 사용시만 )
  마스크 홀더 노광창 약φ80mm φ3인치 웨이퍼(□4인치 마스크) 시
  
  
• 관찰 위치 스테이지 ※옵션
  X축 stroke ±20mm　 수동(레바 방식)
  Y축 stroke ±20mm　 수동(레바 방식)
  
  
• 현미경 이동 자재 암식 이동 수동
  포커스 조정 범위 ±10mm 수동
  
  
• 치수/중량 520(H)×680(W)×720(D)mm이내　/　200Kg　이하
  
  
• 유틸리티
  전원　 AC100V 16A MAX.
  진공 600mmHg이상 진공 펌프 진공기공제 DA-30D추천
  질소 또는 드라이 에어 5Kg/c㎡이상
  
  
• 동작환경
  온도 범위 25±2℃
  습도 범위 50±10%
  

3.보증 규정
검수 후 1년 또는 동작시간5000시간의 어느쪽이든 단기의 (분)편을 보증 기간으로 해 , 불편·고장이 생겼을 경우는 무상 수리 물어 더합니다. 단 , 천재지변 및 취급해 부주의 , 사양외의 환경·사용 조건 , 소모에 의해 발생한 사항은 이 마지막으로는 없습니다. 그리고 , 일반 구입품은 각 메이커의 보증 범위만 물어 더합니다.

4.출하 조건
입회 검사장소:당사에서
출하 검사 내용 아래와 같이 당사 규정에 의한
①기능의 검사 노광 램프 동작 , 진공 흡착 동작 , 스테이지 동작 , 그 외 각부
②일반 사항의 검사 장치 외관 , 형상 , 치수 , 구조 , 조작반의 명판 표시 , 소음 , 진동 , 표면 처리
②노광 조도 측정 사양을 만족하는 것

5.납입시 제출 서류
검사 성적표 1부(당사내 입회 검사 결과)
취급 설명서 1부(보수 부품 명기)

6.특수 사양·변경 추가 리스트
진공 펌프 등 옵션류는 포함되지 않습니다.

1.장치의 개요
본장치는 , 반도체소자 디바이스등 포트리소그래피를 필요로 하는 연구 분야에 있어 , 미세도의 높은 패턴 노광을 할 수 있는 노광 장치입니다. 파장 선택 필터를 복수매 내장 가능한 고성능 인티그레이터 렌즈 방식의DeepUV광원 장치를 탑재해 , 파장역λ=254~500nm의 원자외역의 조사를 실현하고 있습니다. 그리고 같은 축락 쏘아 맞히고 조명 첨부의1~6.3×줌식 실체 현미경은 접안/대물렌즈의 편성으로7.5~425×의 광 배율 범위가 됩니다. 심플한 구성으로 커스터마이즈성에도 우수합니다.

2.사양
◆노광 방식 1：1(등 배) 컨택트 노광
◆적응 시료 사이즈 최대φ4인치 (노광 에리어는UV광원에 의해 정해지는 ) 두께 최대2mm
   시료대의 교환에 의해 각종 사이즈·형상(각형 시료등 ) 에 대응합니다.
◆적응 마스크 사이즈 최대□5인치 두께0.06인치 또는0.09인치
◆램프 하우스 광학 형식 인티그레이터 렌즈 , 다이클로익 타원 밀러 방식(렌즈 재료는 모두 석영제)
   사용 램프 수은 크세논램프200W 조사 거리 약80mm
   유효 노광 범위□30mm 파장역λ=254~500nm 방사 강도 약80mW/c㎡이상(at 365nm)
   조도 균일도±5%이하 노광량 설정 타이머식(적산 광량계 제어는 옵션)
   복수매의 필터를 내장해 외부로부터 바꾸어 사용할 수 있습니다. ( 각 필터는 옵션)
◆현미경 줌식 실체 현미경 니콘제SMZ800 접안 렌즈C-W20×(2개) 대물 배율Plan 1×
   포커스 마운트C-FMC 같은 축락 쏘아 맞히고 조명 장치P-ICI2 UV 컷토프 필터(Y 44)
   종합 배율30~189× 렌즈 편성은 변경할 수 있습니다. (쌍안쌍 대물2시야 현미경은 옵션)
◆아라이먼트 방식 현미경에 의한 목시 아라이먼트(마스크 위치 고정·시료 이동형 아라이먼트)
◆아라이먼트스테이지 XYZ 축미조동 핸들 조작 ,θ축 미동 핸들 조작
   Z축 컨택트·갭미 조정 레바 조작±125μm(에어콘 택트 기구는 옵션)
   레벨(수평) 조정 구면 접동 기구 진공 락 가능
◆마스크 발판 경첩 개폐식
◆관찰 위치 스테이지 XY축 stroke±20mm 수동 레바 방식(관찰 위치 스테이지는 옵션입니다 )
◆치수/중량 670(H)×460(W)×540(D)mm이내/80Kg 이하
◆유틸리티
   전원 AC100V 10A 이하(UV광원 장치 포함)
   진공 600mmHg이상
   (옵션의 에어콘 택트 기구 사용시는 드라이 에어 또는 질소5Kg/c㎡정도도 필요한 )

1제품 개요
　BS320(은)는 연구개발로부터 코나카 로트 제조용에 개발된 양면 동시 노광식 마스크아라이나입니다.
일차 노광은 양면 동시 , 2차 노광 이후는 한 면씩 노광하는 방법(※) 을 채용하기 때문에 , 심플해 응용이 듣는 Low cost인 모델입니다. 그리고 옵션으로 일차 노광시의 시료 위치 맞춤이 용이하게 할 수 있는 「L형 위치 결정 가이드」나 다점 관찰의 용이한 「현미경 XY 스테이지」를 탑재할 수가 있습니다. ※(2차 노광 이후는 한 면 노광이 되기 때문에 별도 「시료대」가 필요하게 됩니다 )

2특징
·디자인 룰 3μm
·웨이퍼 양면에 동시 노광(일차 노광만 )
·φ4인치 웨이퍼 대응
·Low cost
·컴팩트 설계
·풋 스윗치에 의해 간단하게 조작할 수 있는 상마스크 개폐
·손 두어 식이기 때문에 규격 외형장 시료에의 대응이 용이
·아라이먼트마크의 다점 관찰이 용이한 XY축 현미경 스테이지 탑재(옵션)
·웨이퍼 위치 결정 가이드 탑재(옵션)

3사양

• 적용 시료
  최대φ4인치
  사용 사이즈( ± mm× ± mm) t=    μm　
  
  
• 적용 마스크
  최대□5인치
  사용 사이즈( ± mm× ± mm) t=    mm　
  두께는 주문시에0.06(≒1.5mm) ,0.09(≒2.3mm) ,0.12(≒3mm) 인치로부터 선택
  
  
• 마스크·웨이퍼 사이즈 변경
  상하 마스크 홀더의 교환에 의합니다 (일차：양면 동시 노광시)
  (옵션의 L형 웨이퍼 가이드 장비시는 가이드도 교환)
  시료대의 교환에 의하는 (2차：한 면 노광시)
  
  
• 노광 램프 사양 및 노광 성능
  광학 형식：콜리메이터 렌즈 방식
  유효 노광 범위 ：φ120mm
  조도 균일도 ：±15%
  주파장 영역 ：λ=350~450nm
  사용 램프 ：초고압 Hg 램프500W 우시오제 USH-500D
  방사 강도 ：위쪽7mW/c㎡이상 , 아래 쪽6 mW/c㎡이상(at365nm) 우시오UIT-101에서 측정
  램프 냉각 방식 ：강제 공냉
  노광 해상도 ：라인＆스페이스 3μm
  노광할 수 있는 최소 선폭은 레지스터·마스크·웨이퍼·노광전 공정/후속 공정등 의 제조건에 의해
  다른 일이 있습니다.
  
  
• 노광 방식 ：컨택트 방식(컨택트압 가변식)
  　웨이퍼 표면 -위쪽 마스크 패턴면간은 프로키시미티 노광도 가능
  　갭측장기(분해가능 1μm) 는 옵션
  
  
• 노광량 설정 ：상하 독립 타이머 설정
  　설정 시간0.3~99.9초(분해가능0.1초)
  　적산 광량계 제어는 옵션
  
  
• 아라이먼트 방식
  쌍 대물 2시야 현미경에 의한 위쪽 마스크 패턴과 아래 쪽 마스크 패턴 또는 웨이퍼 표면
  동시 관찰에 의한 마뉴아르아라이먼트. 위쪽 마스크 위치 기준(고정) 식.
  
  
• 아라이먼트 현미경 쌍안쌍 대물 현미경(표준에서 아래와 같은3종류의 배율 완전히 교체되고 가능)
  

  종합 배율	92.5	185	370
  대물렌즈 배율	1.85
  접안 렌즈 배율	10
  확대 랜즈 배율	5	10	20
  시야지름 (mm)	φ1.8	φ0.9	φ0.45
  C마운트 결상 배율	9.25	18.5	37
  작동 거리WD (mm)	약 51

  
  ·대물렌즈간 거리 8~90mm
  ·관찰 조명 할로겐 램프＋섬유 라이트 가이드에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
  　UV 컷토프 필터：옐로우 필터를 조명 광원에 매달려라
  　※관찰 조명에 의한 불요 노광 방지를 위해
  　※상하 마스크의 아라이먼트시에는 아래 쪽 램프 하우스로부터의 투과광 조명도 이용 가능.
  ·CCD 카메라 C 마운트(표준 장비)에 의해 접속 가능
  　CCD 카메라 , 모니터등 은 옵션
  ·나노 텍 특별 사양으로 장 작동 거리(WD≒51mm)가 되어 있습니다.
  
  
• 마스크아라이먼트스테이지
  X축(옆) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Y축(세로) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Z축(상하) ：0~1mm 에어 구동 방식(컨택트압 조정 레귤레이터부)
                   ：0~4mm 수동 메카 구동 방식
                   ：갭측장기는 옵션
  θ축 ：±3˚수동(미동)
  평행 조절 ：구면 접동 기구 진공 락
  N2 퍼지 ：노광부에 N2 퍼지 유량계는 옵션
  
  
• 위쪽 마스크 구동 스테이지
  구동 방식 ：모터 구동에 의한 전후 슬라이드 방식
  조반 위치 결정 정밀도 ：XYZ 방향 위치 정밀도±1.5μm이내/100회
  
  
• 현미경 이동 방식 ：자재 스윙 암 방식
  Z축(FOCUS조정) ：±3mm 수동
  노광시 퇴피 ：수동
  ☆옵션에서 관찰 위치 이동 XY 스테이지가 탑재 가능
  X축(옆) ：±10mm 수동
  Y축(세로) ：±10mm 수동
  
  
• 웨이퍼 위치 결정 ：수동
  일차 노광시　 ：손 두어
  　또는 옵션의 L형 가이드에 의한 외형 부딪히게 하고 식 위치 결정.
  　부딪히게 하고 기준 위치 조정 가능. (양면 동시 노광)
  2차 노광 이후 ：하마스크 홀더를 시료대로 교환해 웨이퍼를 진공 흡착.
  쌍안 현미경에 의해 위쪽 마스크 패턴과 시료 표면의 아라이먼트 후 , 웨이퍼 표면의 노광.
  (한 면씩의 노광이 됩니다 )
  
  ☆2차 이후의 노광이 필요한 경우 , 옵션의 「시료대」가 필요합니다.
  ☆상하 마스크 홀더는 사용 마스크에 맞춘 사이즈로 1세트 표준 첨부합니다.
  ☆한 면 노광시에 필요한 시료대는 별도 옵션이 됩니다.
  ☆2차 이후도 양면 동시에 노광할 수 있는 2차 맞추고 스테이지 첨부 사양 ,BS320u도 있습니다.
  
  
• 장치 치수 ：1460(H)×1060(W)×780(D)mm
  장치 중량 ：320㎏이하
  
  
• 유틸리티
  진공 ：600mmHg 이상 진공 펌프는 옵션
  드라이 에어 ：5㎏／c㎡이상
  질소 ：1㎏／c㎡정도(N2 퍼지가 필요한 경우만 )
  전원 ：AC100V 30A

4보증
　검수 후 1년간(가동 8시간 이내/일로서 ) 을 보증 기간으로 합니다.
장치 취급 , 보수를 올바르게 행하고 있는 상태로 고장이 있었을 경우 , 무상에서 수리하겠습니다. 단 구입품에 대해서는 구입품 메이커의 보증 범위로 합니다.

5그 외·비고
①본사양은 향후의 협의해에 의해 변경되는 일이 있습니다.
②최종의 견적은 사양 세부의 결정 후 제출이 됩니다.
③제작·평가시에 귀사 시료 샘플이 필요한 일이 있습니다.
④검수 사양·납품 조건등 은 별도협의하고됩니다.

6특수 사양


※사양은 개량을 위해 예고 없이 변경하는 일이 있습니다.

1제품 개요
BS320u는 연구개발로부터 코나카 로트 제조용에 개발된 양면 동시 노광식 마스크아라이나입니다. 베이스 머신BS320에 특수한 2차 맞추고 스테이지를 부가해 2차 노광 이후도 양면 동시 노광이 가능해졌습니다. 생산 효율이 좋은 작업을 할 수 있습니다.

2특징
·디자인 룰 3μm
·2차 맞추고 스테이지 탑재로 2차 노광 이후도 웨이퍼 양면에 동시 노광
·최대φ3인치 웨이퍼 대응
·Low cost
·컴팩트 설계
·풋 스윗치에 의해 간단하게 조작할 수 있는 상마스크 개폐
·손 두어 식이기 때문에 규격 외형장 시료에의 대응이 용이
·아라이먼트마크의 다점 관찰이 용이한 XY축 현미경 스테이지 탑재(옵션)

3사양

• 적용 시료 최대φ3인치(□2인치)
  사용 사이즈( φ ± mm) t=    μm　
  사용 사이즈( ± mm× ± mm) t= μm　
  
  
• 적용 마스크 최대 □4인치
  사용 사이즈( ± mm× ± mm) t=    mm　
  두께는 주문시에0.06,0.09,0.12인치로부터 선택
  
  
• 마스크·웨이퍼 사이즈 변경
  마스크 사이즈 변경　→　상마스크 홀더 교환 및 2차 맞추고 스테이지의 교환에 의한
  웨이퍼 사이즈 교환　→　웨하크란파 및 웨이퍼 가이드의 교환에 의한
                                  한 면 노광시는 시료대의 교환이 됩니다
  
  
• 노광 램프 사양 및 노광 성능
  유효 노광 범위 ：φ120mm
  조도 균일도 ：±15%
  주파장 영역 ：λ=350~450nm
  사용 램프 ：초고압 Hg 램프500W
  방사 강도 ：위쪽7mW/c㎡이상 , 아래 쪽6 mW/c㎡이상(at365nm) 우시오UIT-101에서 측정
  램프 냉각 방식 ：강제 공냉
  노광 해상도 ：라인＆스페이스 3μm
  노광할 수 있는 최소 선폭은 레지스터·마스크·웨이퍼·노광전 공정/후속 공정등 의 제조건에 의해
  다른 일이 있습니다.
  
  
• 노광 방식 ：컨택트 방식(컨택트압 가변식)
  　웨이퍼 표면만 프로키시미티 노광이 가능. 이면은 컨택트 노광만
  　갭측장기(분해가능 1μm) 부속
  
  
• 노광량 설정 ：상하 독립 타이머 설정
  　설정 시간0.3~99.9초(분해가능0.1초)
  적산 광량계 제어는 옵션
  
  
• 아라이먼트 방식
  쌍 대물 2시야 현미경에 의한 위쪽 마스크 패턴과 아래 쪽 마스크 패턴 또는 웨이퍼 표면 동시 관찰에 의한 마뉴아르아라이먼트. 위쪽 마스크 위치 기준(고정) 식.
  
  
• 아라이먼트 현미경 쌍안쌍 대물 현미경(표준에서 아래와 같은3종류의 배율 완전히 교체되고 가능)
  

  종합 배율	92.5	185	370
  대물렌즈 배율	1.85
  접안 렌즈 배율	10
  확대 랜즈 배율	5	10	20
  시야지름 (mm)	φ1.8	φ0.9	φ0.45
  C마운트 결상 배율	9.25	18.5	37
  작동 거리WD (mm)	약 50

  
  ·대물렌즈간 거리 8~90mm
  ·관찰 조명 할로겐 램프＋섬유 라이트 가이드에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
  　UV 컷토프 필터：옐로우 필터를 조명 광원에 매달려라
  　※관찰 조명에 의한 불요 노광 방지를 위해
  　※상하 마스크의 아라이먼트시에는 아래 쪽 램프 하우스로부터의 투과광 조명도 이용 가능.
  ·CCD 카메라 C 마운트(표준 장비)에 의해 접속 가능
  　CCD 카메라 , 모니터등 은 옵션
  
  
• 마스크아라이먼트스테이지
  X 축(옆) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Y축(세로) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Z축(상하) ：0~1mm 에어 구동 방식(컨택트압 조정 레귤레이터부)
                   ：0~4mm 수동 메카 구동 방식(미동 조정 첨부)
                   ：갭측장기(옵션)
  θ축 ：±3˚수동(미동)
  평행 조절 ：구면 접동 기구 진공 락
  N2 퍼지 ：노광부에 N2 퍼지 유량계는 옵션
  
  
• 위쪽 마스크 구동 스테이지
  구동 방식 ：모터 구동에 의한 전후 슬라이드 방식
  조반 위치 결정 정밀도 ：XYZ 방향 위치 정밀도±1.5μm이내/100회
  
  
• 현미경 이동 방식 ：자재 스윙 암 방식
  Z축(FOCUS조정) ：±3mm 수동
  노광시 퇴피 ：수동
  ☆옵션에서 관찰 위치 이동 XY 스테이지가 탑재 가능
  X축(옆) stroke ：±10mm 수동
  Y축(세로) stroke ：±10mm 수동
  
  
• 웨이퍼 위치 결정 ：수동
  일차 노광시　 ：손 두어
  2차 노광 이후 ：하마스크 홀더에 설치된 2차 맞추고 스테이지에 의해 시료를 클램프.
  쌍안 현미경에 의해 위쪽 마스크 패턴과 시료 표면의 아라이먼트 후 , 웨이퍼 양면의 노광.
  ☆ 상하 마스크 홀더는 사용 마스크에 맞춘 사이즈로 1세트 표준 첨부합니다.
  ☆하마스크 홀더와 2차 맞추고 스테이지는 도대체 구조입니다.
  ☆한 면 노광시에 필요한 시료대는 별도 옵션이 됩니다.
  
• 장치 치수 ：1460(H)×1060(W)×780(D)mm
  장치 중량 ：320㎏이하
  
  
• 유틸리티
  진공 ：600mmHg 이상 진공 펌프는 옵션
  드라이 에어 ：5㎏／c㎡이상
  질소 ：1㎏／c㎡정도(N2 퍼지가 필요한 경우만 )
  전원 ：AC100V 30A

4보증
　검수 후 1년간(가동 8시간 이내/일로서 ) 을 보증 기간으로 합니다.
장치 취급 , 보수를 올바르게 행하고 있는 상태로 고장이 있었을 경우 , 무상에서 수리하겠습니다.
단 구입품에 대해서는 구입품 메이커의 보증 범위로 합니다.

5그 외·비고
①본사양은 향후의 협의해에 의해 변경되는 일이 있습니다.
②최종의 견적은 사양 세부의 결정 후 제출이 됩니다.
③제작·평가시에 귀사 시료 샘플이 필요합니다. 대여 바랍니다.
④검수 사양·납품 조건등 은 별도협의하고됩니다.

6특수 사양

【2차 아라이먼트스테이지의 개요】
2차 아라이먼트스테이지는 2차 노광 이후도 양면 동시 노광을 가능하게하기 위한 기구입니다.
미리 아라이먼트 된 상하 마스크의 위치 관계를 바꾸는 일 없이 상하 마스크간에 배치된
웨이퍼의 위치 맞춤을 엄밀하게 실시할 수가 있습니다.
(웨이퍼를 이동시켜도 상하 마스크의 아라이먼트를 미치게 할 것은 없습니다 )
· 웨하크란파는 좌우 한 벌로 시료의 좌우 측면으로부터 글 사이에 삽입된 어구. 시료와는 점으로 접촉합니다.
· 웨하크란파 두께는 시료 두께 미만으로 탈착 가능. 재질은SUS(스텐레스 용수철 강재) 입니다.
· 웨하크란파는XYθ축 방향으로 미동 가능합니다.
(θ축의 stroke는 시료 외형 사이즈 등 제조건에 의해 바뀝니다 )
· 현미경으로 웨하크란파 첨단부와 하마스크 패턴을 아라이먼트 할 수도 있습니다.
(일차 노광에서 시료 외형으로부터 노광 패턴 위치를 엄밀하게 결정하고 싶은 경우에 사용할 수 있는 )

【2차 아라이먼트스테이지 개략도】

이하는 구형 시료를 클램프 한 예입니다

표리로 제조 프로세스가 다른 시료의 순서대로 양면 노광에 대응하는 마스크아라이나입니다.
일차 노광으로 패터닝 된 제1면의 아라이먼트마크의 이면의 같은 위치에 2차 패턴을 아라이먼트·노광할 수 있습니다.

1　장치의 개요·목적

본장치는 일반적인 컨택트 방식 마스크아라이나의 기능에 가세해 시료의 표면( 제1면) 에 미리 형성된 아라이먼트마크에 대해서 , 그 이면( 제2면) 의 지정된 위치에 마스크 패턴을 아라이먼트 해 노광할 수 있는 마스크아라이나입니다.
시료의 표리로 제조 프로세스가 다른 종래의 양면 동시 노광 장치로 대응 불가능한 디바이스에 대응할 수 있는 , 심플해 응용범위의 넓은 시료 아라이먼트 노광 장치입니다.

〔시료 이면 아라이먼트의 시스템 개요〕
최초로 시료가 없는 상태로 아래 쪽으로부터 마스크의 아라이먼트마크를 관찰해 화상을 수중에 넣어 (메모리) 합니다. 다음에 시료의 미리 형성된 면을 아래에 , 신규 노광면인 면을 위로 향해 시료대에 세트 합니다. 시료 이면의 아라이먼트마크를 이면으로부터 관찰해 , 이 라이브 화상과 메모리 된 마스크의 아라이먼트마크를 동시에 표시해 , 이것들을 일치시키도록(듯이) 아라이먼트 합니다. 그 후 , 시료-마스크를 컨택트 시켜 노광합니다. 탑재되는 이면 관찰용쌍 대물2시야 현미경은 좌우 대물렌즈를 최소18~최대80mm까지 조정 가능합니다. (대응하는 개구부 첨부 시료대가 필요한 )
시료-마스크면끼리의 평행을 조정하는 기구를 가져 , 근접 동작은 미동이 가능합니다. 그리고 컨택트압은 에어 실린더에 의해 조정이 가능합니다.
※상하 현미경의 관찰 광축 일치 기능은 없습니다.


2　사양

·아라이먼트 형식 마스크-시료 표면 관찰에 의한 아라이먼트(통상) 및 마스크-시료 이면 관찰에 의한 비데오아라이먼트(이면 아라이먼트)

·시료 아라이먼트스테이지
X축 stroke ±5mm 수동 미조동 손잡이
Y축 stroke ±5mm 수동 미조동 손잡이
Z축 stroke조동 0~5mm 에어 구동 상승단 높이는 다이얼 설정
컨택트압 조정 가능
상승/강하 스피드는 에어 스피드 콘트롤러에서 설정 가능
Z축 stroke 미동 ±125μm 나사 보내 미동 레바
Z축 위치 측정 미트트요제 Z축 높이측장기 분해가능 1μm(옵션)
θ축 stroke ±5˚ 수동 미동
레벨 조정 3점 나사에 의한 각도 조정(아오리 기구)
시료 고정 방식 진공 흡착 고정
시료대 개구부 시료 이면 관찰용의 구멍. 유자아라이먼트마크 위치에 의한다.
시료 사다리꼴 형상외 별도협의.
예) 한쪽 편φ10mm 정도 (웨이퍼 좌우 아라이먼트마크 부근에 2개소)
(좌우 간격 최소18mm정도) 이 개구부가 관찰 범위가 됩니다.
시료 장전 방법 시료 장전을 위해서(때문에) 스테이지를 전후 슬라이드 가능
스테이지 조작에 의해 마스크 관찰 위치에 영향을 주지 않는 구조.

·위쪽 현미경(통상의 마스크아라이나)
방식 쌍 대물CCD&모니터 관찰 현미경
마스크 패턴면 및 웨이퍼 표면을 동시에 관찰하는
사용 현미경 페티마운트(φ17mm)CCD카메라용 현미경(2대)
종합 배율 9인치시 약100배 모니터 사이즈에 의한
광학 렌즈 배율 4배
WD(작동 거리) mm 40 현미경 단면으로부터
초점심도 μm 100
분해가능 μm 약 4
시야 범위 약 mm 옆1.6(2분할시0.8) × 세로1.2※좌우CCD의 영상을1모니터에 비추기 (위해)때문에 옆의 시야는 반이 됩니다
마운트 페티마운트
조명 방식 고휘도 적색LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 조명

CCD 카메라 1/2인치 41만 화소 흑백CCD카메라 2대
Z축(FOCUS조정) 전체 ±3mm , 한쪽 편 독립 ±1.5mm (수동)
대물렌즈간 거리 20~80mm X축(옆) 방향
전후 위치 조정 좌우 독립 ±3mm 수동
관찰 조명 조정 좌우 독립 조도 조정
위치 맞춤 정밀도 ±2μm정도　※사용하시는 시료 , 마스크 등에 의합니다.
마스크에 대해서 시료 표면(전공정에서의 아라이먼트마크) 을 아라이먼트 하는 정밀도.

·아래 쪽 현미경(이면 관찰 아라이나)
방식 쌍 대물CCD&모니터 관찰 현미경
마스크 패턴면 또는 웨이퍼 이면을 관찰하는
사용 현미경 C 마운트CCD카메라용 현미경(2대)
윗쪽 관찰용 롱 현미경 커스텀 모델
종합 배율 9인치시 약100배 모니터 사이즈에 의한
광학 렌즈 배율 4배
WD(작동 거리) mm 13 현미경 단면으로부터
초점심도 μm 100
분해가능 μm 약 4
시야 범위 약 mm 옆1.6(2분할시0.8) × 세로1.2※좌우CCD의 영상을1모니터에 비추기 (위해)때문에 옆의 시야는 반이 됩니다
마운트 C 마운트
조명 방식 고휘도 적색LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 조명

CCD 카메라 1/2인치 41만 화소 흑백CCD카메라 2대
Z축(FOCUS조정) 전체 ±3mm , 한쪽 편 독립 ±1.5mm (수동)
대물렌즈간 거리 18~80mm X축(옆) 방향
전후 위치 조정 좌우 독립 ±3mm 수동
◎ 광축은 마스크 설치면에 수직
◎ 포커스 조정축도 마스크 설치면에 수직

화상 처리 장치 화상 메모리 첨부 센터 와이프(위쪽/아래 쪽 현미경 전환식)
모니터 9인치 흑백
관찰 조명 조정 좌우 독립 조도 조정
위치 맞춤 정밀도 ±3μm정도　※사용하시는 시료 , 마스크 등에 의합니다.
마스크에 대해서 시료 이면(전공정에서의 아라이먼트마크) 을 아라이먼트 하는 정밀도.

·마스크 홀더부
개폐 방식 개폐문 방식(수동) 뚜껑폐시 메카 락 가능
시료의 장전은 스테이지의 전후 슬라이드에서 실시하는
마스크 고정 방식 진공 흡착 고정
마스크 사이즈 최대 □5인치
납품시 □　 인치 마스크 홀더 부속(노광창　φ　　　mm)
사이즈 변경은 마스크 홀더의 교환에 의해 대응하는
두께 최대 t=2.3mm정도　　

·적응 시료
시료 사이즈 최대 φ4인치
납품시 　　　　　　mm 겸용 시료대 부속
사이즈 변경은 시료대의 교환에 의해 대응하는
두께 최대 t=500μm정도
고정 방식 진공 흡착 고정 진공도랑 형상은 「H의 글자」형 (관찰 개구부를 피한다 )
시료대 재료등 알루미늄 합금(YH 75) 초경질흑 아르마이트·연마

·화상 처리의 기능
①좌우 관찰상(2입력) 을 1모니터(1출력) 의 좌우에 배분해 표시(와이프 기능)
②좌/우 현미경의 단독 화상을 1모니터에 표시(와이프 기능의 오프)
③표시 화상의 메모리(freeze)
④메모리 화상과 라이브 화상의 합성 표시
⑤위쪽(2대)/아래 쪽(2대) 의 바꾸기 기능

·노광 성능 및 램프 하우스
광학 형식 콜리메이터 렌즈 방식
유효 노광 면적 약φ80mm
조도 균일도 ±15%이내
주파장 365?05?36nm
UV 조사 강도 약13mW/c㎡ (at 405nm)
우시오 자외선 조도계UIT-101로 측정시
사용 램프 우시오전기제 250W Hg램프 USH-250D
램프 평균수명 약800시간
노광량 설정 타이머 설정(0.3~99.9초 분 단위에도 설정 가능)
셔터 개폐 로터리 솔레노이드 방식
광축 조정 XYZ3축 조정 방식
노광 해상도 라인＆스페이스　1~2μm
※단 전후 공정등 의 제조건 , 사용 재료등에 의해 변화합니다.
마스크아라이나 단체에서의 보증은 할 수 없습니다.
냉각 방식 강제 공냉
전원 장치 트랜지스터 스위칭정 전력 제어 직류 스타터식
출력 전력 안정도 ±1%　이내

·시스템 구성 시료 아라이먼트 장치 본체 , 제어 박스
화상 처리 장치(모니터 , 각종 케이블등 포함한：별도)
자외선 광원 장치 및 전원 장치
Z축 갭측장기/표시기(별도) 는 옵션

·유틸리티 진공 600mmHg 이상 시료·마스크 고정용 φ6mm튜브구
공기 압력 3Kg/c㎡정도 시료 컨택트용 φ6mm튜브구
진공 펌프 및 공기 압력 펌프는 옵션
전원 AC100V　15A　옵션의 진공·공기 압력 펌프는 제외한
·외형 치수 폭700×깊이600×높이700mm(발자국)
　　조작시에 발자국을 오버합니다. 설치 장소는300mm정도 여유를 가져 주세요.
·환경조건 온도　22±3℃
습도　20~80%　다만 결로 하지 않는 것

3　이면 관찰 아라이나시의 작업 공정 개략
본장치의 일반적인 작업 공정에 대해서는 아래와 같이 플로우를 상정하고 있습니다.
장치에는 미리 시료 사이즈에 있던 시료대가 세트 되고 있어 시료대(또는 웨이퍼 노광면) 와 마스크(패턴면) 의 평행이 조정되고 있는 것으로 합니다.

《준비 플로우：아래 쪽 현미경 아라이먼트 작업》
※위쪽 현미경은 사용하지 않습니다.
① 마스크 홀더부를 열어 마스크를 달아 진공 흡착합니다. 시료는 아직 달지 않습니다.
② 마스크의 좌우 아라이먼트마크를 관찰할 수 있도록(듯이) 아래 쪽 좌우 현미경을 위치 결정 합니다.
모니터 좌우 시야의 거의 중심으로 좌우 아라이먼트마크가 오도록(듯이) 좌우 현미경의 위치나 포커스를 조정합니다.
③ 현미경은 좌우 독립해 XYZ축 방향으로 이동 가능합니다. Z축 방향에 관해서는 좌우 동시에 상하할 수도 있습니다.
④ 화상을 freeze(메모리) 합니다. 다운 당한 화상과 라이브 영상이 합성되어 표시됩니다.
⑤ ※이 이후 , 아래 쪽 현미경 XY 위치를 변경하지 않기로 합니다. (포커스 방향을 제외하다 )

《작업 플로우》
① 스테이지를 전방으로 꺼내 , 시료 대상에 시료를 진공 흡착 고정합니다. 이 때 가능한 한 중심으로 두어 주세요.
② 스테이지를 오측에 이동시키고 잠급니다.
③ 시료대를 상승시킵니다. 아라이먼트를 실시하기 때문에 마스크와 시료의 사이에는 갭(수십μm정도) 을 마련해 주세요. 접촉하고 있으면(자) 아라이먼트시에 스쳐 버립니다.
④ 현미경의 포커스를 시료 이면에 맞춥니다. (현미경 XY 위치는 불변으로 합니다 )
⑤ 미리 수중에 넣은 마스크의 아라이먼트마크(freeze 화상) 와 시료 이면의 아라이먼트마크(라이브 화상) 를 모니터상에서 관찰하면서 겹치도록(듯이) 아라이먼트 합니다.
【아라이먼트예】


⑥ 시료가 마스크에 접촉할 때까지 , 천천히 상승시킵니다. 컨택트압을 조정합니다.
※접촉 압력은 에어 실린더의 공기 압력으로 가변할 수 있습니다.
⑦ UV광원 장치로 자외선을 조사해 노광합니다.
⑧ 마스크-시료가 떨어질 때까지 시료대 Z축을 강하시킵니다.
⑨ 스테이지를 전방에 꺼냅니다.
⑩ 시료의 진공 흡착을 오프 해 시료를 꺼냅니다. (이하 , 시료를 교환해 계속)


※사양은 개량을 위해 예고 없이 변경하는 일이 있습니다.

1.제품 개요
노광 면적 최대φ8인치까지의 고정밀도 노광 장치. 고정밀도 인티그레이터 렌즈 사용의 램프 하우스를
탑재해 조도 분포±5%이하를 실현했습니다. 아답터의 교환에 의해 각종 사이즈의 마스크 , 시료에 대응
할 수 있습니다.

2.사양

• 노광 성능 램프 하우스 우시오제 PM25C-200
  유효 노광 범위 φ200mm ( 약□140mm)
  노광 해상도 라인＆스페이스 약10μm　(참고가격)
  ※단 노광 전후 공정등 의 제조건에 의해 변화합니다.
  노광주 파장 λ=365nm(i선)
  광학 시스템 인티그레이터 렌즈 및 콜리메이터 렌즈
  중심 광선 평행도 ±1о이내
  시각 ±2.5˚
  조사 균일도 ±5%이하(유효 노광 에리어 전면에서 )
  램프 초고압 수은등　250W　우시오제 USH-250BY
  UV 조도 6mW/c㎡이상 사용 파장λ=365nm
               8mW/c㎡이상 사용 파장λ=405nm
               우시오전기제 자외선 조도계 UIT-101에 의한 측정치
  냉각 방식 강제 공냉
  전원부 정전력 제어(250W)전원 장치 우시오제HB-25103BY-1
  노광량 제어 타이머식 셔터 개폐 제어(표준)
                  (옵션에서 적산 광량 제어)
                    ㈜오크제작소 자외선 광량계UV-M10(기기조입형)
                    수광기UV-35 (또는UV-42)
  
  ※노광 에리어φ6인치 대응기도 제작할 수 있습니다.
  
  
• 관찰 광학계
  현미경 쌍 대물2시야 아라이먼트스코프
  종합 배율 100배 (9인치 모니터상에서 )
  대물렌즈 교환에서 배율 바꾸고 가능
  
  대물렌즈 간격 조정식 80~200mm
  관찰 조명 5W마이크로 할로겐 램프에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 조명
  (자외선 컷용 옐로우 필터 내장)
  현미경 이동 수동 조작 전후 이동(노광시는 후방에 이동)
  관찰 CCD 카메라(2대) 및 9인치 흑백 모니터(1대)
  1모니터에서 좌우 2시야 분할 표시(와이프 장치부)
  1/2인치41만 화소CCD (2대)
  시야 범위(밑그림 참조)
  
  
  
• 아라이먼트스테이지
  아라이먼트 방식 마스크 고정·웨이퍼 이동형 아라이먼트
  시료 세트 웨이퍼손 두어
  마스크 사이즈 최대□9인치 두께 0.09또는0.12인치
  웨이퍼 사이즈 최대φ8인치 두께 최대1mm
  각 축 stroke(전축과도 수동)
  XY축　±5mm 조동·미동 보내 핸들(조동0.8mm/회전 , 미동0.1mm/회전)
  Z축　　0~10mm 이상 종합 stroke
  ·0~10mm조동 보내 핸들에 의한 수동(조동1mm/회전)
  ·0~1mm 미동 에어 구동(컨택트압 조정용)
  ·±250μm 프로키시미티-아라이먼트 갭 조정 가능
  ·최소 눈금 10μm  ※갭측장기 사용시 분해가능 1μm
  θ축　　±5˚
  마스크·웨이퍼 고정 진공 흡착식
  마스크 이동 방법 고정식 수동 개폐 조작
  
  
• 노광 방식 컨택트 및 프로키시미티
  컨택트압 조정 가능(Z축 구동 에어 압제)
  
  
• 데스크 구조
  방진 대책으로서 데스크 하부에 방진 레벨 패드 , 기준 정반하에 방진 고무를 장비.
  
  
• 유틸리티
  전원 AC100V 15A
  드라이 에어 5Kg/c㎡이상
  진공 700mmHg이상
  
  
• 외형 치수 1620×1200×800 mm (H×W×D)
  
  
• 중량 300Kg
  
  
• 상세 및 커스터마이즈 항목은 별도협의
  

3.사양 덧붙여 씀 및 주의 사항
　테스트를 위해 , 입회 검수전에 사용하시는 시료 , 마스크의 형상 샘플을 대여 받습니다.


4.장치의 구성


5.보증 규정
 검수 후 1년 또는 동작시간5000시간의 어느쪽이든 단기의 (분)편을 보증 기간으로 해 , 불편·고장이 생겼을
경우는 무상 수리 물어 더합니다. 단 , 천재지변 및 취급해 부주의 , 사양외의 환경·사용 조건 , 소모에 의해
발생한 사항은 이 마지막으로는 없습니다. 그리고 , 일반 구입품은 각 메이커의 보증 범위만 물어 더합니다.

6.출하 조건
입회 검사장소:당사에서
출하 검사 내용 당사 규정에 의한
·기능의 검사 노광 램프 동작 , 진공 흡착 동작 , 스테이지 동작 , 그 외 각부
·일반 사항의 검사 장치 외관 , 형상 , 치수 , 구조 , 조작반의 명판 표시 , 소음 , 진동 , 표면 처리
·노광 조도 측정 사양을 만족하는 것

7.납입시 제출 서류
검사 성적표 1부(당사내 입회 검사 결과)
취급 설명서 1부(보수 부품 명기)

개요
손님의 사양이나 예산에 맞추어 각종 유니트나 옵션이 선택하실 수 있습니다. 필요한 유니트만 선택하는 것으로 쓸데없는 코스트를 억제 당합니다. 그리고 대부분의 유니트가 나중에 추가·변경할 수 있기 때문에 장래의 사양 업이나 초기 도입 코스트 삭감도 가능합니다.

각 유니트를 선택하는 것만으로 당신에게 최적인 아라이나를 구성할 수 있는

1. 베이스
   
2. 지주
   
3. 아라이먼트스테이지
   
4. 마스크 발판
   
5. 마스크 홀더
   
6. 시료대
   
7. 현미경
   
8. UV광원 장치
   
9. 제어
   
10. 그 외의 옵션

스테이지 구성예
　　　　　　　　

베이스
탁상형 아라이나의 기준이 되는 정반입니다. 베이스 이면에는 방진 고무가 내장되고 있습니다.

1. 대형：고안정인 알루미늄 정반으로 제어 박스등을 둘 수도 있습니다.
   폭700×깊이600×두께50(mm)
2. 중형：아라이먼트스테이지 및 지주가 최소 스페이스에서 설치할 수 있는 알루미늄제 베이스입니다.
   폭460×깊이540×두께25(mm)

지주
램프 하우스 및 현미경을 설치하는 폴입니다.
1책의 지주에 램프 하우스와 현미경이 설치할 수 있습니다. 필수 선택이 됩니다.
지주는 핸들에서 회전 가능해 램프 하우스와 현미경을 스윙 시켜 스테이지상에 위치 결정 할 수 있습니다. 회전 각도는45˚또는60˚으로 설정 가능해 회전을 락 시키는 손잡이가 붙어 있습니다.

아라이먼트스테이지
웨이퍼와 마스크를 위치 맞춤하기 위한 기구입니다.

1. XY미조동 스테이지
   아라이먼트를 위해서(때문에) 사용합니다. 시료 대상에 둔 웨이퍼를 손잡이 조작으로XY방향으로 미동·결점 동요합니다. 조동 손잡이는0.8mm/회전 , 미동 손잡이는0.1mm/회전입니다. stroke는XY과도±5mm입니다.
   
   　　　　　　
   
   
2. 관찰 위치 스테이지
   웨이퍼와 마스크를 위치 결정 한 채로 관찰 위치를 이동하는 기구입니다. 마스크와 웨이퍼의 아라이먼트 상태를XY방향 개별적으로±20mm의 범위에서 관찰할 수 있습니다. 주로 아라이먼트마크의 다점 관찰에 사용합니다.
   
   　　　　
   
   
3. Z미조동 스테이지 에어콘 택트 기구 첨부 (a)
   시료 대상에 둔 웨이퍼를 메카 보내 및 에어 실린더(미동) 로Z방향으로 상승시킵니다. 컨택트 압력은 조정 가능한 에어압에 의해 컨트롤 되기 때문에 작업자에게 의등 없는 설정을 할 수 있습니다. 에어 실린더에 의한 미동의 상승 stroke는0.5mm또는0.25mm이 선택 가능합니다. 메카송는 stroke4mm로 미조동 손잡이 조작이 됩니다.
   ※본유니트 사용시는 제어 박스1가 필요합니다.
   
   
4. Z미조동 스테이지 (b)
   시료 대상에 둔 웨이퍼를Z방향으로 미조동 시킵니다. 미동의 상승 stroke는0.5mm또는0.25mm이 선택 가능합니다. 조동송는 stroke5mm의 직동 슬라이드(나사 락) 식이 됩니다. 무엇보다 심플하고 Low cost인 기구입니다.
   
   
5. Z미동 스테이지 슬로우식 에어콘 택트 기구 (c)
   시료 대상에 둔 웨이퍼를 에어 실린더로Z방향으로 상승시킵니다. 상승 stroke4.5~5mm가 에어에 의한 저속 상승이 됩니다. 컨택트 압력은 조정 가능한 에어압에 의해 컨트롤 되기 때문에 작업자에게 의등 없는 설정을 할 수 있습니다. 상승단의 위치는 미동 가능해 stroke가0.5mm또는0.25mm으로 선택할 수 있습니다. 가리 비소 시료등 큰 휘어진 상태가 있는 웨이퍼를 나누지 않게 누르면서 마스크와 컨택트 시키는 용도로 이용됩니다.
   ※본유니트 사용시는 제어 박스2가 필요합니다.
   
   　　　　　 　(왼쪽으로부터a,b,c)
   
   
6. θ미동 스테이지
   시료 대상에 둔 웨이퍼를θ방향으로 미동 시킵니다. stroke는±7˚입니다. 옵션으로 stroke±30˚의θ조동 첨부도 선택할 수 있습니다.
   
   　　　　　　
   
   
7. 레벨(구면 접동 기구)
   웨이퍼의 표리 wedge(비평행성) 를 보정하기 위한 구면 접동 기구입니다. 시료대 이면에 철 구면 ,Z스테이지 상부에 요 구면을 마련해 임의의 각도에 경사 가능합니다. 요철공 표면은 광학 렌즈 레벨의 랩 마무리하고로 접동성은 양호합니다. 본기구를 사용해 프로키시미티개프 노광에 대응합니다.
   웨이퍼 노광면과 마스크 패턴면의 평행이 나온 상태로 구면을 진공 잠글 수 있습니다.
   ※컨택트 노광만을 사용하는 경우는 기운 상태를 유지할 필요는 없기 때문에 시료 대하부에 우레탄고무를 설치하거나 시료대 표면에 코르크를 붙이는 등 방법에 따라 밀착성을 올릴 수 있습니다. 자세하게는 상담해 주십시오.
   
   　　　　　　　
   
   
8. 웨이퍼재물대
   마스크를 사용하지 않고 웨이퍼의 노광만 실시하는 경우에 사용합니다.
   
   　　　　　　
   

마스크 발판
마스크를 웨이퍼 윗쪽에 지지하는 발판입니다. 마스크를 세트 하려면 마스크 발판에 마스크 홀더(어댑터) 를 답니다. 마스크 홀더를 개재시켜, 이것을 교환하는 것으로 각종 사이즈의 마스크에 대응합니다. 마스크 위치는 고정으로 아라이먼트의 기준이 됩니다. 웨이퍼와의 아라이먼트가 필요한 경우는 필수 선택입니다.

1. 경첩 개폐식
   웨이퍼 교환을 위해 마스크 홀더가 윗방향에 경첩으로 회전 개폐할 수 있습니다.
   
   　　　　　
   
   
2. 슬라이드식
   웨이퍼 교환을 위해 마스크 홀더가 후방에 슬라이드해 , 보다 스피디 하게 작업할 수 있습니다.
   
   　　　　　
   
   

마스크 홀더
마스크를 진공으로 흡착 고정합니다. 마스크 홀더의 교환으로 최대□5인치 마스크까지 달고 가능합니다. 주문시에 사용하는 마스크 사이즈를 연락해 주세요. 웨이퍼와의 아라이먼트가 필요한 경우는 필수 선택입니다.
SEMI규격의 웨이퍼를 사용하는 경우 , 마스크 사이즈는 웨이퍼의 직경＋1인치의 각형이 됩니다.

1. 노광창각구멍：□2,□2.5,□3,□4,□5인치 특수 형상의 마스크는 별도협의해에서 대응
   각 구멍의 네 귀퉁이에는R5정도의 아르가 다합니다.
   
2. 노광창환혈：□2,□2.5,□3,□4,□5인치 특수 형상의 마스크는 별도협의해에서 대응
   
   　　　　　　
   

시료대
웨이퍼를 싣는 평면 기판으로 웨이퍼는 진공 흡착으로 고정됩니다. 웨이퍼와의 아라이먼트가 필요한 경우는 필수 선택입니다.

1. 대응 웨이퍼 사이즈：φ2,φ3,φ4인치 특수 형상의 웨이퍼는 별도협의해에서 대응
   
2. 웨이퍼 형상：표준은SEMI규격환형 각형 기판은 특주
   
3. 진공도랑 형상：표준은 0에 십자 또는 φ0.5mm정도의 작은 구멍을φ20mm원내에 matrices장에 다수 배치. 특수 형상의 진공도랑은 별도협의해에서 대응
   
4. 재질：표준은 알루미늄 합금(JIS A5052) 에 경질 아르마이트 처리
   
5. 특수 사양으로 알루미늄 합금(JIS A5052) 에 초경질 아르마이트 처리 후 표면 랩(평면성 양호한 경면)
   
6. 특수 사양으로 놋쇠(JIS C3604BD또는C2801P) 에 특수 저온 처리 흑색 크롬 도금(저폐해)
   
   
   　　　　　　　

현미경
마스크 유리와 웨이퍼의 아라이먼트마크를 동시에 초점심도내에 들어갈 수 있어 관찰하기 위한 현미경입니다.
코스트를 내리기 위해서(때문에) 소지의 일반적인 실체 현미경을 설치하도록(듯이)도 할 수 있습니다.
※자세하게는 상담해 주십시오.

1. 실체 현미경
   니콘·Olympus·라이카제의 줌식 실체 현미경이 선택 가능합니다. 1시야 쌍안 관찰에서는 시야가 넓기 때문에 비교적 소형 시료의 간이적인 아라이먼트에 이용됩니다.
   예를 들면 니콘제의 경우 , 줌 배율(0.75~4.9배) , 접안 렌즈·대물렌즈의 교환에 의해3.75~294배(같은 축락 쏘아 맞히고 조명 장착시는22.5~330배) 의 넓은 배율 범위에서 관찰할 수 있습니다.
   관찰 조명은 사광식 섬유 조명 , 같은 축락 쏘아 맞히고 조명을 선택할 수 있습니다.
   할로겐 램프 광원에는 레지스터 불요 노광을 방지하기 위한 옐로우 필터가 내장됩니다.
   3안경통을 이용하면CCD카메라를 접속해 모니터 관찰하는 일도 가능합니다.
   
   
2. 쌍안쌍 대물2시야 현미경
   르미나스제의3변배식 현미경입니다. 좌우2책의 대물렌즈가 탑재되고 렌즈 간격을8~90mm로 가변할 수 있습니다. 시야를 좌우 2분할해 좌우 대물상을 동시에 관찰하는 것 외에 , 바꾸고로 단일 대물상을 쌍안으로 관찰할 수도 있습니다. 웨이퍼의 좌우단에 아라이먼트마크를 넣는 것으로 소형으로부터 대형 시료까지의θ축 아라이먼트를 고정밀도에 실시할 수 있습니다. 섬유식 같은 축락 쏘아 맞히고 조명으로 광원에는 레지스터 불요 노광을 방지하기 위한 옐로우 필터가 내장됩니다.3안경통에CCD카메라를 접속하는 일도 가능합니다. 나노 텍 특별 사양으로 장 작동 거리(WD≒51mm)가 되어 있습니다.
   
   

   종합 배율	92.5	185	370
   대물렌즈 배율	1.85
   접안 렌즈 배율	10
   확대 랜즈 배율	5	10	20
   시야지름 (mm)	φ1.8	φ0.9	φ0.45
   C마운트 결상 배율	9.25	18.5	37
   작동 거리WD (mm)	약 51

   
   ·대물렌즈간 거리 8~90mm
   ·관찰 조명 150W할로겐 램프＋섬유 라이트 가이드에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
     UV 컷토프 필터：Y44옐로우 필터를 조명 광원에 매달려라
     ※관찰 조명에 의한 불요 노광 방지를 위해
   ·C 마운트(표준 장비)에 의해 CCD 카메라 접속 가능(CCD 카메라 , 모니터는 옵션)
   
   
3. CCD현미경
   모니터 관찰 전용의 현미경입니다. 최종적인 배율은 사용하는 모니터 사이즈에 의해 정해집니다. 대물렌즈의 광학 배율은1,2, (3 특주) ,4,5,10,20배가 선택 가능합니다. 관찰 조명은 초고휘도 적색LED을 사용해 불요 노광의 걱정도 없고 저발열로 장수명입니다. CCD현미경은 높이가 낮기 때문에 램프 하우스를 마스크의 바로 위에 고정한 채로 현미경세트·대피 동작이 가능하고 조작성이 오릅니다. 그리고 옵션으로 현미경 자체를XY축 방향으로 이동시키는 스테이지가 붙여지기 때문에 관찰 위치 스테이지는 불필요해집니다.
   흑백 모니터는 Low cost인9인치로부터 소니제의 고해상도 모니터까지 선택할 수 있습니다.
   
   
   

UV광원 장치
마스크 패턴을 웨이퍼에 노광하기 위한 자외선 광원 장치입니다. 수은 램프와 조사 광학계를 납입한 램프 하우스와 별도의 전원 장치세트입니다.

　　　　　　　　　 　
                  콜리메이터 -렌즈 방식 , integrator 렌즈 방식 , 전원 장치 (왼쪽으로부터 )

1. 콜리메이터 -렌즈 방식 램프 하우스
   반도체소자 , 마이크로 머신등의 제조에 이용되는 일반적이고 Low cost인 광원 장치입니다. 조도 분포는±10~15%정도입니다. (보다 강한 조도가 필요한 경우는 옵션에서500W가 선택 가능)
   
   

   형식	조사지름 φmm	램프 출력 W	365nm조도  mW/c㎡	405nm조도 mW/c㎡	조도 분포 %
   UIV-270	70	250	10	14	80
   UIV-290	90	250	6	8	80
   UIV-5100	100	500	9	13	80

   
   
2. integrator 렌즈 방식 램프 하우스
   디자인 룰의 세세한 패턴 노광에 제조에 이용되는 고성능인 광원 장치로 유효 조사 에리어내의 조도 분포는±5%이하입니다. 콜리메이터 -방식과 비교해 집광 효율이 높고 같은 출력의 수은 램프를 이용해도2~4배 정도의UV조도를 얻을 수 있습니다. (보다 강한 조도가 필요한 경우는 옵션에서500W가 선택 가능)
   
   

   형식	조사지름 φmm	램프 출력 W	365nm조도  mW/c㎡	405nm조도 mW/c㎡	조도 분포 %
   PM25C-60	60	250	70	100	±5
   PM25C-75	75	250	45	64	±5
   PM25C-90	90	250	31	43	±5
   PM25C-100	100	250	25	35	±5

   
   
3. 지정의 램프 하우스를 탑재하기 위한 커스터마이즈도 받고 있습니다. 상담해 주세요.

제어
쓰기 쉬운 제어 박스나 Low cost인 수동 밸브를 선택할 수 있습니다.

1. 제어 박스
   마스크나 시료의 진공 흡착 , 레벨의 락·프리 바꾸어 Z축 에어콘 택트의 온·오프 및 압력 설정 , 노광 시간의 설정이 하나의 박스에 들어가고 있습니다.
   「Z미조동 스테이지 에어콘 택트 기구 첨부」를 선택의 경우 , 제어 박스1가 필요합니다.
   「Z미동 스테이지 슬로우식 에어콘 택트 기구」를 선택의 경우 , 제어 박스2가 필요합니다.
   
   　　　　 제어 박스1　　　　 셔터 콘트롤러 ST100
   
   
2. 수동 밸브
   마스크나 시료의 진공 흡착 , 레벨의 락·프리 바꾸고를 수동 밸브로 실시합니다. 무엇보다 Low cost인 유니트입니다. 각 수동 밸브는 베이스 정반상에 설치됩니다.
   UV광원 장치의 셔터 개폐를 두자노래째 별도 「셔터 콘트롤러ST100」(또는 적산 광량계식 노광량 제어) 이 필요합니다.
   
   
3. 적산 광량계식 노광량 제어(옵션)
   수은 램프의 특성상 ,UV조도는 점등 초기시부터 서서히 감소해 갈 것입니다. 일반적으로는 정기적으로UV조도계로 조도를 체크해 노광 시간을 증가시킵니다만 , 적산 광량계 제어로 하면 한 번 설정한 노광량을 유지하도록(듯이) 자동적으로 노광 시간을 연장합니다. 또UV조도를 측정할 수도 있습니다.
   본옵션 선택시에는UV측정 파장(센서 피크 감도) 을365nm,405nm로부터 선택합니다.
   

그 외의 옵션
주변기기나 쓰기를 향상시키기 위한 옵션입니다

1. 웨이퍼 위치 결정 가이드
   시료 대상에 웨이퍼를 둘 때 기준이 되는L형태의 위치 맞춤 가이드입니다. 1다음(퍼스트) 노광시는 웨이퍼에 아라이먼트마크가 없기 때문에 아라이먼트는 할 수 없습니다. 웨이퍼 위치 결정 가이드를 이용하면 웨이퍼의 외형 부딪히게 하고로 시료 대상의 위치를 결정할 수 있습니다.
   
   
2. Z축측장기
   시료대의 높이를1μm단위로 직독 표시합니다. 프로키시미티 노광 등 정밀한 갭 설정이 필요한 경우 등에 사용합니다. 독일 하이덴하인 사제.
   
   
3. 진공 펌프
   유량은 적어도 되기 때문에 소형 진공 펌프로 충분합니다. 당사에서는 진공기공제의 것DA-30S을 추천하고 있습니다.
   
   
4. 공기 압력 펌프
   에어콘 택트 기구 첨부Z스테이지를 이용의 경우에 필요합니다.
   

1.장치의 개요
본장치는 후라이아이렌즈 방식UV광원2등에서 시료 표면 및 좌우 양측면에의 노광이 가능합니다.
특히 수정 등 디바이스 측면에도 패턴 노광이 필요한 프로세스를 향해 커스터마이즈 되고 있습니다.
심플한 구성으로 커스터마이즈성이 뛰어나고 다방면에서 응용이 듣는 Low cost인 모델입니다.

2.사양
형식：등 배 노광 장치
형명：ES20w

노광 방식 1：1(등 배) 컨택트 노광
시료 표면 및 좌우 측면에의 노광 실험에 대응

적응 시료
사이즈 최대φ4인치(노광 에리어는UV광원에 의해 정해지는 ) 두께 최대2mm
각 사이즈 모두 시료대의 교환에 의해 대응 가능
고정 방식 진공 흡착 고정

적응 마스크
사이즈 최대□5인치
두께 0.06인치 또는0.09인치
각 사이즈 모두 마스크 홀더등 의 변경에 의해 대응 가능
고정 방식 진공 흡착 고정

램프 하우스
광학 형식 후라이아이렌즈 , 다이클로익 타원 밀러 방식
메이커·제품번호 미나가 전기 제작소 「 UVF-203S ＋ 직사 렌즈 유니트STU」×2등
사광 노광 대응(수평에서(보다)50번. 좌우 대칭)
사용 램프 수은 크세논램프 200W
조사 거리 약140mm
유효 노광 범위 세로76.5mm×옆76.5mm 이상
파장역 λ=365~436nm
방사 강도 약 10mW/c㎡이상(at 365nm)
조도 균일도 ±10%
우시오전기제UIT-101및 센서λ=365nm에서 측정
램프 냉각 방식 강제 공냉
노광 해상도 라인＆스페이스3μm 정도(수직 하향 조사의 경우)
노광할 수 있는 최소 선폭은 사용하시는 레지스터·마스크·웨이퍼 및 노광전 공정/후속 공정등 의
제조건에 의해 다른 일이 있습니다.
노광량 설정 타이머 설정(0.3~99.9초) 단위 변경 가능
셔터 개폐 로터리 솔레노이드 방식
광축 조정 불요(원터치 장착형)
냉각 방식 냉각 팬에 의한 강제 공냉
전원 장치 램프 하우스 일체형
소비 전력 AC100V 640W 이하(UV광원 장치만. 320W /받침대)
좌우UV조사 각도는50번(고정식)




아라이먼트 방식 현미경에 의한 목시 아라이먼트
마스크 위치 고정 , 시료 이동형 아라이먼트


현미경 쌍안쌍 대물2시야 현미경 (3배율 교체식)

※좌우 시야 한쪽 눈으로서의 횡방향 사이즈는 시야지름의 반이 됩니다.

대물렌즈간 거리 8~90mm(공칭치)
관찰 조명 할로겐 램프＋섬유 라이트 가이드에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 조명
UV 컷토프 필터 Y 50옐로우 필터를 조명 광원에 내장(레지스터 불요 노광 방지)
CCD 카메라 접속 표준 장비의 C 마운트에 의해 접속 가능
CCD 카메라 , 모니터는 옵션
현미경 지지 자재 암 방식 폴 회전에 의한 대피 θ축 미동 아라이먼트 첨부

마스크아라이먼트스테이지(마스크 고정 , 웨이퍼 이동)
X축 stroke ±5mm 수동 미동·조동
Y축 stroke ±5mm 수동 미동·조동
Z축 stroke 0~4mm 수동 미동·조동 메카 보내 손잡이 조작
0~0.5mm 에어 구동 갭 조정용 레바 조작
θ축 stroke ±5˚ 수동 미동
레벨(수평) 조정 구면 접동 기구 진공 락 가능

마스크 발판 경첩 개폐식

관찰 위치 스테이지
X축 stroke ±20mm　 수동(레바 방식)
Y축 stroke ±20mm　 수동(레바 방식)

현미경 이동 자재 암식 이동 수동
포커스 조정 범위 ±10mm 수동

치수/중량 670(H)×700(W)×600(D)mm이내　/　80Kg　이하
대형 베이스
가능한 한 강성의 높은 데스크를 준비해 주세요. 내 하중200kg이상 추천
램프 전원 장치 , 진공 펌프(옵션) 등은 별도가 됩니다.
설치 스페이스를 확보 바랍니다.

유틸리티
전원 AC100V 10A 이하 (UV광원 장치 포함)
질소 또는 드라이 에어 5Kg/c㎡정도
진공 600mmHg이상
진공 펌프(진공기공제 DA-30S) 는 옵션

동작환경
온도 범위 22±3℃
습도 범위 50±10%

【사광2등 이면 관찰 아라이나 BA420】

1 시료 이면 아라이먼트시스템의 개요
최초로 시료가 없는 상태로 아래 쪽으로부터 마스크의 아라이먼트마크를 관찰해 화상을 수중에 넣어 (메모리) 합니다. 다음에 시료의 미리 형성된 면을 아래에 , 신규 노광면인 면을 위로 향해 시료대에 세트 합니다. 시료 이면의 아라이먼트마크를 이면으로부터 관찰해 , 이 라이브 화상과 메모리 된 마스크의 아라이먼트마크를 동시에 표시해 , 이것들을 일치시키도록(듯이) 아라이먼트 합니다. 그 후 , 시료-마스크를 컨택트 시켜 노광합니다.
탑재되는 이면 관찰용쌍 대물2시야 현미경은 좌우 대물렌즈를 최소18~최대80mm까지 조정 가능합니다. (대응하는 개구부 첨부 시료대가 필요한 )
시료의 표리로 제조 프로세스가 다른 종래의 양면 동시 노광 장치로 대응 불가능한 디바이스에 대응할 수 있습니다.

2 특징
·시료 수직면(측면) 노광을 가능하게 하는 고정밀도 고출력 경사2등식UV광원 시스템
·시료 이면 관찰 아라이먼트시스템 탑재로 순서대로 양면 노광
·각종 형상 시료에 대응
·상하 독립 4-CCD카메라(4시야) 현미경으로 모니터 관찰 아라이먼트

3 사양
①적용 시료 최대φ4인치 귀사 시료 사이즈에 맞추는
(형상 샘플을 대여 바라는 )
시료 흡착 진공도랑은 희망 형상을 연락해 주세요. (주문시)

②적용 마스크 최대□5인치

③마스크·웨이퍼 사이즈 변경
마스크 사이즈 변경　→　마스크 홀더의 교환에 의하는
웨이퍼 사이즈 교환　→　시료대의 교환에 의하는

④노광 램프 사양 및 노광 성능
노광 방식 위쪽2등(좌우 대칭)
연직보다 좌우35도(고정) 경사 하향 조사(각도 변경은 별도 상담)
광학 형식 인티그레이터 렌즈(후라이아이렌즈) 방식
유효 노광 범위 φ100mm
조도 균일도 ±5%이하(수직 조사 상태에서 )
주파장 영역 λ=365~436nm
사용 램프 초고압 Hg 램프750W
방사 강도 (단체) 약80mW/c㎡이상　(at 365nm) 우시오UIT-101에서 측정
램프 냉각 방식 강제 공냉
노광 해상도 라인＆스페이스 3μm(참고가격)
노광할 수 있는 최소 선폭은 레지스터·마스크·웨이퍼·노광전 공정/후속 공정등 의 제조건에 의해 다른 일이 있습니다.
(본장치 단체에서는 최종 결과의 보증은 할 수 없습니다 )

⑤노광 방식 컨택트 방식(컨택트압 가변식) 및 프로키시미티
※갭측장기(분해가능 1μm) 를 장비

⑥노광량 설정 좌우 독립 타이머 설정
설정 시간0.3~99.9초(분해가능0.1초)

〔램프 하우스의 대피 기구〕
좌우 램프 하우스는 마스크 설치시(마스크 홀더개시) 에 방해가 되지 않는 것 같은 대피 기구를 가지고 있습니다.
대피 방법은 회전(스윙) 이동으로 좌우 램프 하우스가 동기 링크 기구를 장비 하고 있습니다.

⑦아라이먼트 방식
〔표면 관찰〕
쌍 대물 2시야CCD현미경(위에서 아래를 관찰)에 의한 위쪽 마스크 패턴과 웨이퍼 표면 동시 관찰에 의한 마뉴아르아라이먼트.
마스크 위치 기준(고정)-웨이퍼 이동식 아라이먼트.

〔이면 관찰〕
쌍 대물 2시야CCD현미경(아래에서 위를 관찰)에 의한 위쪽 마스크 패턴(시료 장전전에 찍은 메모리 화상) 과
웨이퍼 이면(라이브 화상) 동시 관찰에 의한 마뉴아르아라이먼트. 마스크 위치 기준(고정)-웨이퍼 이동식 아라이먼트.

※위쪽 현미경과 아래 쪽 현미경의 광축 일치 기능은 없습니다. (독립하고 있는 )

⑧아라이먼트 현미경
·위쪽 현미경(통상의 표면 노광 마스크아라이나)
관찰 방식 쌍 대물 2시야CCD&모니터 관찰 현미경
마스크 패턴면 및 웨이퍼 표면을 동시에 관찰하는
종합 배율 9인치시 약100배 모니터 사이즈에 의한
광학 렌즈 배율 4배
WD(작동 거리) mm 40 현미경 단면으로부터
초점심도 μm 100
분해가능 μm 약 4
시야 범위 약 mm 옆1.6(2분할시0.8) × 세로1.2※좌우CCD의 영상을1모니터에 비추기 (위해)때문에 옆의 시야는 반이 됩니다
마운트 페티마운트 φ17카메라 전용 마운트
조명 방식 고휘도 적색LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 조명

CCD 카메라 1/2인치 41만 화소 흑백CCD카메라 2대
Z축(FOCUS조정) 전체 ±3mm , 한쪽 편 독립 ±1.5mm (수동)
대물렌즈간 거리 20~80mm X축(옆) 방향
전후 위치 조정 좌우 독립 ±3mm 수동
관찰 조명 조정 좌우 독립 조도 조정
현미경 퇴피 수동 노광시 후방에 대피 stroke 약200mm
관찰시 위치 기준 위치(아라이먼트마크 관찰 위치：임의에 한 개소 지정 가능) 와 프리 이동을 바꾸고 가능

위쪽 현미경의 조작계(아래 쪽 현미경은 위쪽 현미경의 조작 축으로 더하고 전체 포커스축을 가집니다 )

·아래 쪽 현미경(이면 관찰 아라이나)
관찰 방식 쌍 대물 2시야CCD&모니터 관찰 현미경
마스크 패턴면 또는 웨이퍼 이면을 관찰하는
사용 현미경 롱 현미경 커스텀 사양 (2받침대)
종합 배율 9인치시 약100배 모니터 사이즈에 의한
광학 렌즈 배율 4배
WD(작동 거리) mm 13 현미경 단면으로부터
초점심도 μm 100
분해가능 μm 약 4
시야 범위 약 mm 옆1.6(2분할시0.8) × 세로1.2※좌우CCD의 영상을1모니터에 비추기 (위해)때문에 옆의 시야는 반이 됩니다
마운트 C 마운트
조명 방식 고휘도 적색LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 조명

CCD 카메라 1/2인치 41만 화소 흑백CCD카메라 2대
Z축(FOCUS조정) 전체 ±3mm , 한쪽 편 독립 ±1.5mm (수동)
대물렌즈간 거리 18~80mm X축(옆) 방향(시료대 개구부에 의해 제한 있어 )
전후 위치 조정 좌우 독립 ±3mm 수동
◎ 광축은 마스크 설치면에 수직
◎ 포커스 조정축도 마스크 설치면에 수직

화상 처리 장치 화상 메모리 첨부 센터 와이프(위쪽/아래 쪽 현미경 전환식)
모니터 9인치 흑백 고해상도
관찰 조명 조정 좌우 독립 조도 조정

⑨아라이먼트스테이지
X축 stroke ±5mm 수동 미조동 손잡이
Y축 stroke ±5mm 수동 미조동 손잡이
Z축 stroke조동 0~5mm 에어 구동 상승단 높이는 다이얼 설정
컨택트압 조정도 가능
상승/강하 스피드는 에어 스피드 콘트롤러에서 설정 가능
Z축 stroke 미동 0~250μm 나사 보내 미동 레바 최소 눈금 5μm (기준)
Z축 위치 측정 갭측장기를 장비(정밀한 갭 조작이 가능)
분해가능 1μm　표시 카운트 리셋트 기능
θ축 stroke ±5˚ 수동 미동
레벨 조정 3점 나사에 의한 각도 조정(아오리 기구)
시료 고정 방식 진공 흡착 고정
시료 위치 결정 시료 대상에 손 두어
옵션에서 시료 대상에 시료 외형 기준선을 넣을 수가 있습니다.
시료대 개구부 시료 이면 관찰용의 구멍. 유자아라이먼트마크 위치에 의한다.
시료 사다리꼴 형상 , 개구부외 별도협의.
　　　　　　　예) 한쪽 편φ10mm 정도 (웨이퍼 좌우 아라이먼트마크 부근에 2개소)
(좌우 간격 최소18mm정도) 이 개구부가 관찰 범위가 됩니다.
시료 장전 방법 시료 장전을 위해서(때문에) 스테이지를 전후 슬라이드 가능
스테이지 이동 조작에 의해 마스크 관찰 위치에 영향을 주지 않는 구조.
마스크 장전 방법 마스크 장전을 위해서(때문에) 마스크 홀더를 경첩 개폐할 수 있습니다. (수동)

⑩시스템 구성 본체(데스크 일체형)
제어 박스 ,UV램프 하우스(사광 2등) ,UV광원 전원 장치(2기) , 아라이먼트 관찰계(상하) ,
화상 처리 장치(모니터×1,CCD×4,CCU×4, freeze 와이프 장치×1) , 갭측장기.

〔옵션〕
진공 펌프
공기 압력 펌프(필터등 보기류)

⑪장치 치수·중량 1600×1230×800 mm 정도 (H×W×D 설치 필요 치수 포함한)
320㎏이하

⑫환경조건 온도　22±3℃
습도　20~80%　다만 결로 하지 않는 것

⑬유틸리티
진공 600mmHg이상 접속구는φ6mm나일론 튜브용입니다
드라이 에어 5Kg/c㎡이상 접속구는φ6mm나일론 튜브용입니다
전원 AC 100V 35A(합계) 3구 이상 필요
※장치 설치 장소 유틸리티의 일차측의 배관·배선은 귀사에서 설비해 주세요.

※사양은 개량을 위해 예고 없이 변경하는 일이 있습니다.

사광2등식 얼라이너
LA320

• 시료 측면 노광을 가능하게 하는2등불식
• 디자인 룰 3μm
• 각종 형상 시료에 대응
• 컴팩트 설계
• 풋 스윗치에 의해 간단하게 조작할 수 있는 마스크 개폐
• 모니터 관찰 아라이먼트에 의한 간편 오퍼레이션

• 적용 시료 최대φ4인치
  납품시후 사용 사이즈
  시료 흡착 진공도랑은 희망 형상을 연락해 주세요. (주문시)
  
• 적용 마스크 최대□5인치
  납품시후 사용 사이즈
  
• 마스크·웨이퍼 사이즈 변경
  마스크 사이즈 변경　→　마스크 홀더의 교환에 의한
  웨이퍼 사이즈 교환　→　시료대의 교환에 의한
  
• 노광 램프 사양 및 노광 성능
  노광 방식 ：위쪽2등 연직보다 좌우35도의 경사 하향 조사
  광학 형식 ：인티그레이터 렌즈 방식
  유효 노광 범위 ：φ100mm
  조도 균일도 ：±5 %(수직 조사 상태에서 )
  주파장 영역 ：λ=365~436nm
  사용 램프 ：초고압 Hg 램프500W 우시오전기제
  방사 강도 ：(단체에서 ) 약65mW/c㎡이상(at 365nm) 우시오UIT-101
  램프 냉각 방식 ：강제 공냉
  노광 해상도 ：라인＆스페이스 3μm(참고가격)
  노광할 수 있는 최소 선폭은 레지스터·마스크·웨이퍼·노광전 공정/후속 공정등 의 제조건에 의해 다른 일이 있습니다. (본장치 단체에서의 보증이 아닙니다 )
  
• 노광 방식 ：컨택트 방식(컨택트압 가변식)
  　※갭측장기(분해가능 1μm) 는 옵션
  
• 노광량 설정 ：좌우 독립 타이머 설정
  　설정 시간0.3~99.9초(분해가능0.1초)
  ※적산 광량계 제어는 옵션
  
• 아라이먼트 방식
  쌍 대물 2시야 현미경에 의한 위쪽 마스크 패턴과 웨이퍼 표면 동시 관찰에 의한 마뉴아르아라이먼트. 위쪽 마스크 위치 기준(고정)-웨이퍼 이동식 아라이먼트.
  
• 아라이먼트 현미경 쌍안쌍 대물CCD&모니터 관찰 전용 현미경
  현미경은 주식회사 르미나스제 LWS-2-4-40-P (2받침대).

1. CCD 카메라 1/2인치41만 화소 흑백CCD카메라
2. 모니터 9인치 흑백 모니터  와이프 장치(2CCD영상→1모니터 출력)
3. Z축(FOCUS조정) ：±3mm 수동
4. 노광시 퇴피 ：수동
5. Y축(세로) stroke ：대피 위치까지 약200mm 수동
6. 대물렌즈간 거리 ：20~80mm X축(옆) 방향

• 마스크아라이먼트스테이지
  X축(옆) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Y축(세로) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Z축(상하) ：0~1mm 에어 구동 방식(컨택트압 조정 레귤레이터부)
  ：0~4mm 수동 메카 구동 방식(미동 조정 첨부)
  ※독일 하이덴하인 사제 갭측장기는 옵션
  θ축 ：±3˚수동(미동)
  평행 조절 ：구면 접동 기구 진공 락
  N2 퍼지 ：노광부에 N2 퍼지 유량계는 옵션
  
• 위쪽 마스크 구동 스테이지
  구동 방식 ：모터 구동에 의한 전후 슬라이드 방식
  조반 위치 결정 정밀도 ：XYZ 방향 위치 정밀도±1.5μm이내/100회
  
• 현미경 이동 방식 ：자재 암식을 예정(임의의1포인트를 pre-set 가능)
  
• 웨이퍼 위치 결정
  일차 노광 , 2차 노광시 모두 손 두어 ※시료 위치 결정L형 가이드는 옵션
  시료 고정 진공도랑 형상은 희망 형상을 연락해 주세요.
  
• 장치 치수 ：1600×1230×800 mm 이하 (H×W×D 설치 필요 치수 포함한)
  
• 장치 중량 ：320㎏이하
  
• 유틸리티
  진공 ：600mmHg 이상 진공 펌프는 옵션
  드라이 에어 ：5㎏／c㎡이상
  질소 ：1㎏／c㎡정도(N2 퍼지가 필요한 경우만 )
  전원 ：AC 100V 45A
  

• 본사양은 향후의 협의해에 의해 변경되는 일이 있습니다.
• 최종의 견적은 사양 세부의 결정 후 제출이 됩니다.
• 제작·평가시에 귀사 시료 샘플 및 마스크 유리가 필요합니다. 대여 부탁 드립니다.
• 검수 사양·납품 조건등 은 별도협의하고됩니다.

• UV조도 측정용의 경사대가 부속됩니다.
• 노광 램프의 검수 조건은 이하와 같이 정합니다.
  좌우 다른 한쪽씩 점 켠 상태로 경사대를 사용해 광축에 대해서 수직인 상태로 측정.
  이 경우 , 조사 거리는 기준보다 짧아집니다만 이 정도치에서의 측정치를 참고 기준으로 합니다.
• 좌우 대물렌즈의 최소 간격을20mm까지 접근할 수 있도록(듯이) 합니다.
• 현미경 관찰 위치를 기준 위치(아라이먼트마크 관찰 위치：임의에 한 개소 지정 가능) 와 프리로 교체되도록(듯이) 합니다.
• 각형 시료의 대각 아라이먼트마크 관찰 기구는 옵션입니다.
• 시료 대상의 시료 흡착 진공도랑은 희망 형상을 연락해 주세요. (주문시)
• 시료 흡착 진공도의 진공 레귤레이터에 의한 조정 기능은 옵션으로 합니다.
• 관찰용 모니터는 토시바제9인치 흑백 모니터P9MR04를 사용합니다.
  소니제 고해상도 모니터PVM-146J는 옵션입니다.
• 마스크 개폐를 위한 좌우 램프 하우스 대피는 회전이동. 좌우 동기 링크 기구 첨부.

• 시료 측면 노광을 가능하게 하는 사광3등 투사
• 프로세스 처리 시간을 단축할 수 있는 양면 동시 노광
• 인티그레이터 렌즈 탑재의 고성능 램프 하우스(3기) 에서 디자인 룰 3μm(참고가격)
• 2차 맞추고 스테이지 탑재로 2차 노광 이후도 웨이퍼 양면에 동시 노광
• φ4인치까지의 유저 시료 형상에 대응
• 풋 스윗치에 의해 간단하게 조작할 수 있는 상마스크 개폐
• 손 두어 식이기 때문에 규격 외형장 시료에의 대응이 용이
• 아라이먼트마크의 다점 관찰이 용이한CCD현미경

• 적용 시료 ：최대φ4인치(=φ100mm) 두께700~1000μm
  납품시 대응 시료 사이즈
  시료 사이즈에 맞춘 2차 맞추고 스테이지용 쿠란파(손톱) 를 작성하겠습니다.
  
  
• 적용 마스크 ：최대□5인치(=□127mm) t=2.3mm(=0.09인치) 1종류
  
  
• 마스크·웨이퍼 사이즈 변경
  마스크 사이즈 변경　→　상마스크 홀더 및 2차 맞추고 스테이지의 교환에 의한
  웨이퍼 사이즈 교환　→　웨하크란파(손톱) 의 교환에 의한
  
  
• 노광 램프 사양 및 노광 성능
  노광 방식 ：위쪽2등은 연직보다 좌우 대칭 24도(1종류 고정) 의 경사로 하향 조사
  아래 쪽1등 수직 오름새 조사
  광학 형식 ：인티그레이터 방식
  유효 노광 범위 ：φ105mm
  조사 거리 ：330mm(설계치)
  조도 균일도 ：±5%
  주파장 영역 ：λ=365~436nm
  사용 램프 ：초고압 Hg 램프500W 우시오전기제 USH-500D
  방사 강도 ：약40mW/c㎡이상(at 365nm) 우시오UIT-101
  램프 냉각 방식 ：강제 공냉
  노광 해상도 ：라인＆스페이스 3μm(참고가격)
  노광할 수 있는 최소 선폭은 레지스터·마스크·웨이퍼·노광전 공정/후속 공정등 의 제조건에 의해 다른 일이 있습니다. (본장치 단체에서의 보증이 아닙니다 )
  
  
• 노광 방식 ：컨택트 방식(컨택트압 가변식)
  웨이퍼 표면만 프로키시미티 노광이 가능. 이면은 컨택트 노광만
  갭측장기(분해가능 1μm) 는 옵션
  
  
• 노광량 설정 ：상하3등 독립 타이머 설정
  설정 시간0.3~99.9초(분해가능0.1초)
  적산 광량계 제어는 옵션
  
  
• 아라이먼트 방식
  쌍 대물 2시야 현미경에 의한 위쪽 마스크 패턴과 아래 쪽 마스크 패턴 또는 웨이퍼 표면 동시 관찰에 의한 마뉴아르아라이먼트. 위쪽 마스크 위치 기준(고정) 식.
  
  
• 아라이먼트 현미경 쌍안쌍 대물CCD&모니터 관찰 전용 현미경
  현미경은 주식회사 키요카즈 광학 제작소 PBL-3×-LED-TS 커스텀 메이드(2받침대)
  
  
  1. 종합 배율 모니터 사이즈에 의한
  2. 광학 렌즈 배율 3배 물구나무 서기정상
  3. WD(작동 거리) 36.5±1mm
  4. 초점심도 약200μm
  5. 분해가능 약4μm
  6. 시야 범위 mm 세로1.63 × 옆2.18(분할 표시시는 옆1.09)
  7. 마운트 φ17카메라 전용 마운트
  8. 관찰 조명 ：LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
     상하 마스크의 아라이먼트시에는 아래 쪽 램프 하우스로부터의 빛
     (불요 노광 방지 필터 통과제) 을 투과 조명으로서 이용 가능.
  9. CCD 카메라 ：1/2인치41만 화소 흑백CCD카메라
  10. 모니터 ：14인치 흑백 모니터 소니제PVM-146J
  11. 와이프 장치(2CCD영상→1모니터 출력)
  12. 현미경 노광시 퇴피 ：리니어 가이드직동 방식 수동
      전후 stroke 노광시 대피 위치까지 후방에 약200mm
  13. 대물렌즈간 거리 ：20~80mm X축(옆) 방향
      전후 위치 조정 ：좌우 독립 ±3mm 수동
  14. Z축(FOCUS조정) ：±3mm 수동
  15. 현미경 관찰 위치 스테이지 현미경 전체를XY축 방향으로±15mm정도 이동 가능.
      센터 클릭 스톱
      
  
  
  「현미경 조작부」
  (정면도)
  
  
  (표면도)
  
  
  
• 마스크아라이먼트스테이지
  X축(옆) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Y축(세로) ：±3mm 수동(미동·결점 동조정 다이얼)
  Z축(상하) ：0~1mm 에어 구동 방식(컨택트압 조정 레귤레이터부)
  ：0~4mm 수동 메카 구동 방식(미동 조정 첨부)
  (독일) 하이덴하인 사제 갭측장기는 옵션
  θ축 ：±3˚수동(미동)
  평행 조절 ：구면 접동 기구 진공 락
  N2 퍼지 ：노광부에 N2 퍼지 유량계는 옵션
  
  
• 위쪽 마스크 구동 스테이지
  구동 방식 ：모터 구동에 의한 전후 슬라이드 방식
  조반 위치 결정 정밀도 ：XYZ 방향 위치 정밀도±1.5μm이내/100회(환경 변화 없음시)
  
  
• 2차 맞추고 스테이지
  X축(옆) ：±1.5mm 수동(미동 조정 다이얼)
  Y축(세로) ：±4mm 수동(미동 조정 다이얼) 주의
  θ축 ：최대±2.5˚정도 수동(미동) 주의：시료 사이즈에 의한
  【제한 사항】시료의 가로폭에 의해θ축의 이동 범위는 변화합니다.
  
  
• 웨이퍼 위치 결정 ：일차 노광 , 2차 노광시 모두 손 두어
  2차 노광시 조작 방법
  하마스크 홀더에 설치된 2차 맞추고 스테이지에 의해 시료 좌우 측면을 클램프.
  현미경에 의해 위쪽 마스크 패턴과 시료 표면의 아라이먼트 후 , 웨이퍼 양면을 노광.
  상하 마스크 홀더는 사용 마스크에 맞춘 사이즈로 1세트 표준 첨부합니다.
  시방서 말미의《2차 맞추고 스테이지 사용 제한 사항》을 참조하십시오.
  
  
• 장치 치수 ：1900×1250×900 mm (H×W×D) 돌기부 포함하지 않고
  모니터대 , 램프 전원 장치는 별도.
  ※모니터대는 본장치에 포함되지 않습니다. 별도 준비해 주세요.
  【접지에 필요한 스페이스】
  메인트넌스 스페이스로서 장치 후부에 사람 혼자가 앉아 작업 가능한 공간(60cm정도) 을 준비해 주세요. 장치옆에서 후부에 돌아 담는 정도의 틈새를 비워 주세요.
  
  
• 장치 중량 ：400㎏이하
  
  
• 유틸리티
  진공 ：600mmHg이상 진공 펌프는 옵션
  드라이 에어 ：5㎏／c㎡이상
  질소 ：1㎏／c㎡정도(N2 퍼지가 필요한 경우만 )
  전원 ：AC100V 45A
  
  

• 본사양은 향후의 협의해에 의해 변경되는 일이 있습니다.
• 최종의 견적은 사양 세부의 결정 후 제출이 됩니다.
• 제작·평가시에 귀사 시료 샘플이 필요합니다. 대여 부탁 드립니다.
• 검수 사양등 은 당사 검수 대조표에 의합니다.
  

• 사용할 수 있는 시료의 두께는250μm이상1000μm이하입니다.
  쿠란파(손톱) 의 사이즈·형상은 유저 시료 형상에 맞추어 제작하겠습니다.
  
  
• 시료는 하마스크상에 실려 있기 때문에 아라이먼트시에 시료 이면과 하마스크 패턴이 접동합니다.
  양해해 주십시오.
  
• 2차 아라이먼트스테이지와 하마스크 홀더는 일체가 되고 있습니다. 그 때문에 마스크 사이즈를 변경하는 경우 , 2차 맞추고 스테이지마다 교환이 됩니다. 시료 사이즈에 의하지 않고 사용 마스크 사이즈는 가능한 한1종류로 해 (분)편이 편리합니다.
  
  
• 그 외의 공장 옵션
  누전 브레이커(30mA이하)
  상마스크 구동 모터용 과전류 브레이커
  본체 도장색 표준은 아이보리